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公开(公告)号:JP6961573B2
公开(公告)日:2021-11-05
申请号:JP2018510674
申请日:2017-04-07
申请人: 富士フイルム株式会社
发明人: 上村 哲也
IPC分类号: G03F7/32 , H01L21/027 , G03F7/42
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公开(公告)号:JP2021172879A
公开(公告)日:2021-11-01
申请号:JP2020080717
申请日:2020-04-30
申请人: 富士フイルム株式会社
IPC分类号: G03F7/42 , G03F7/40 , G03F7/023 , G03F7/039 , G03F7/26 , G03F7/004 , H05B33/10 , H01L51/50 , C23C14/04
摘要: 【課題】テーパー形状及び寸法安定性に優れる金属パターンの形成方法、及び、蒸着用メタルマスクの製造方法の提供。 【解決手段】感光性転写材料により形成されたポジ型感光性樹脂層を基材上に有する積層体を準備する工程、上記ポジ型感光性樹脂層を露光及び現像してテーパー形状を有する樹脂パターンを形成する工程、並びに、上記樹脂パターンの形状に対応するテーパー形状の金属パターンを形成する工程を含み、上記露光時の露光波長、又は、上記ポジ型感光性樹脂層が光酸発生剤を含み、かつ光酸発生剤の波長350nm〜400nmの範囲における極大吸収波長における上記ポジ型感光性樹脂層の透過率が、50%以下である金属パターンの形成方法、及び、上記金属パターンの形成方法により得られた金属パターンを有する蒸着用メタルマスクの製造方法。 【選択図】図1
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公开(公告)号:JP6909251B2
公开(公告)日:2021-07-28
申请号:JP2019041279
申请日:2019-03-07
发明人: ユアンメイ ツァオ , マイケル フェニス , リッチー ダルトン ピーターズ
IPC分类号: H01L21/027 , H01L21/304 , C11D7/26 , C11D7/32 , C11D7/50 , G03F7/42
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公开(公告)号:JP2021099380A
公开(公告)日:2021-07-01
申请号:JP2019229660
申请日:2019-12-19
申请人: 花王株式会社
发明人: 山田 晃平
摘要: 【課題】一態様において、CODを大きく増加させることなく、細線部における樹脂マスク除去性に優れる樹脂マスク剥離用洗浄剤組成物を提供する。 【解決手段】本開示は、一態様において、アルカリ剤(成分A)、非イオン性界面活性剤(成分B)、キレート剤(成分C)及び水(成分D)を含有し、第一級アルコールアルコキシレートであり、成分Cが、カルボキシ基及びホスホン酸基から選ばれる少なくとも1種の酸基を2以上有する化合物であり、使用時における成分Dの含有量が、65質量%以上98質量%以下である、樹脂マスク剥離用洗浄剤組成物に関する。 【選択図】なし
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公开(公告)号:JP2021091903A
公开(公告)日:2021-06-17
申请号:JP2021004951
申请日:2021-01-15
发明人: シューマン,ディルク
IPC分类号: G03F7/42 , C11D3/18 , C11D3/20 , H01L21/304 , C11D17/08
摘要: 【課題】表面からフォトレジスト被膜を除去するための多相系の使用を提供する。 【解決手段】表面からフォトレジスト被膜を除去するための多相系の使用であって、前記多相系は、2種類の非混和性の液体を含み、前記2種類の液体の一方は、水であり、前記2種類の液体の他方は、水中での溶解度が4g/L未満の特定の水不溶性物質であり、前記水不溶性物質は、アルカン、シクロアルカン、芳香族、長鎖アルカン酸エステル、ジカルボン酸エステル等からなる群から選ばれ、前記多相系は、少なくとも1種の界面活性剤、及び、特定のアセト酢酸をさらに含み、前記多相系は、0より大きく200NTU以下の濁度値を有し、前記水不溶性物質は、前記多相系の総重量に対して、1.5〜30重量%以下の範囲の量で存在し、前記少なくとも1種の界面活性剤は、前記多相系の総重量に対して2〜20重量%の範囲で存在している、多相系を使用する。 【選択図】なし
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公开(公告)号:JP2021511531A
公开(公告)日:2021-05-06
申请号:JP2020538136
申请日:2019-01-23
摘要: 本発明は、構造(I)(式中、nは0〜16の整数である)を有するアルキルベンゼンスルホン酸、構造(II)(式中、Rは、−(−O−CH 2 −CH 2 −) n −OH、−OH、−O−C(=O)−CH 3 からなる群から選択され、そしてn’は、1、2、3または4に等しい)を有する溶剤、構造(III)を有する溶剤、構造(IV)を有する溶剤、及び構造(V)を有する溶剤からなる群から選択される溶剤またはこの群から選択される少なくとも二種の溶剤の溶剤混合物から本質的になる組成物に関する。 他の態様の一つでは、該組成物は、追加的に、界面活性剤成分からも本質的になる。 この発明は、上記のいずれかの組成物を、パターン化フォトレジストを基材から除去するために使用することにも関する。
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公开(公告)号:KR20210031105A
公开(公告)日:2021-03-19
申请号:KR1020190112630A
申请日:2019-09-11
申请人: 세메스 주식회사 , 성균관대학교산학협력단
CPC分类号: H01L21/6715 , G03F7/162 , G03F7/30 , C11D1/667 , C11D11/0047 , G03F7/0392 , G03F7/168 , G03F7/32 , G03F7/325 , G03F7/40 , G03F7/422 , G03F7/423 , H01L21/02307 , H01L21/304 , H01L21/67017 , H01L21/67225 , G03F7/039 , G03F7/322
摘要: 본 발명은 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법에 관한 것이다. 본 발명의 일 실시 예에 따른 기판 처리 장치는 현상액이 도포된 상태로 반입된 기판으로 유기 용매를 도포하는 제1공정 챔버; 상기 유기 용매가 도포된 상태로 반입된 상기 기판을 초임계 유체를 통해 처리 하는 제2공정 챔버를 포함한다.
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公开(公告)号:KR102224907B1
公开(公告)日:2021-03-09
申请号:KR1020180044429A
申请日:2018-04-17
申请人: 엘티씨 (주)
CPC分类号: G03F7/42 , G03F7/425 , C11D11/00 , C11D11/0047 , C11D7/32 , C11D7/3218 , C11D7/34 , C11D7/50 , C11D7/5004
摘要: 본 발명은 미세회로를 형성하는 PCB 제조용, 특히 다층 연성 PCB(Flexible Multi-layer Printed Circuit Board) 제조 공정에 적용 가능한 드라이필름 레지스트 박리액 조성물에 관한 것이다.
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