金属パターンの形成方法、及び、蒸着用メタルマスクの製造方法

    公开(公告)号:JP2021172879A

    公开(公告)日:2021-11-01

    申请号:JP2020080717

    申请日:2020-04-30

    摘要: 【課題】テーパー形状及び寸法安定性に優れる金属パターンの形成方法、及び、蒸着用メタルマスクの製造方法の提供。 【解決手段】感光性転写材料により形成されたポジ型感光性樹脂層を基材上に有する積層体を準備する工程、上記ポジ型感光性樹脂層を露光及び現像してテーパー形状を有する樹脂パターンを形成する工程、並びに、上記樹脂パターンの形状に対応するテーパー形状の金属パターンを形成する工程を含み、上記露光時の露光波長、又は、上記ポジ型感光性樹脂層が光酸発生剤を含み、かつ光酸発生剤の波長350nm〜400nmの範囲における極大吸収波長における上記ポジ型感光性樹脂層の透過率が、50%以下である金属パターンの形成方法、及び、上記金属パターンの形成方法により得られた金属パターンを有する蒸着用メタルマスクの製造方法。 【選択図】図1

    樹脂マスク剥離用洗浄剤組成物
    5.
    发明专利

    公开(公告)号:JP2021099380A

    公开(公告)日:2021-07-01

    申请号:JP2019229660

    申请日:2019-12-19

    发明人: 山田 晃平

    摘要: 【課題】一態様において、CODを大きく増加させることなく、細線部における樹脂マスク除去性に優れる樹脂マスク剥離用洗浄剤組成物を提供する。 【解決手段】本開示は、一態様において、アルカリ剤(成分A)、非イオン性界面活性剤(成分B)、キレート剤(成分C)及び水(成分D)を含有し、第一級アルコールアルコキシレートであり、成分Cが、カルボキシ基及びホスホン酸基から選ばれる少なくとも1種の酸基を2以上有する化合物であり、使用時における成分Dの含有量が、65質量%以上98質量%以下である、樹脂マスク剥離用洗浄剤組成物に関する。 【選択図】なし

    高機能溶液を用いたフォトレジスト剥離

    公开(公告)号:JP2021091903A

    公开(公告)日:2021-06-17

    申请号:JP2021004951

    申请日:2021-01-15

    摘要: 【課題】表面からフォトレジスト被膜を除去するための多相系の使用を提供する。 【解決手段】表面からフォトレジスト被膜を除去するための多相系の使用であって、前記多相系は、2種類の非混和性の液体を含み、前記2種類の液体の一方は、水であり、前記2種類の液体の他方は、水中での溶解度が4g/L未満の特定の水不溶性物質であり、前記水不溶性物質は、アルカン、シクロアルカン、芳香族、長鎖アルカン酸エステル、ジカルボン酸エステル等からなる群から選ばれ、前記多相系は、少なくとも1種の界面活性剤、及び、特定のアセト酢酸をさらに含み、前記多相系は、0より大きく200NTU以下の濁度値を有し、前記水不溶性物質は、前記多相系の総重量に対して、1.5〜30重量%以下の範囲の量で存在し、前記少なくとも1種の界面活性剤は、前記多相系の総重量に対して2〜20重量%の範囲で存在している、多相系を使用する。 【選択図】なし