发明专利
- 专利标题： Fluorinated monomers, the polymer compound, the resist material and a patterning process
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申请号： JP2011072183申请日： 2011-03-29
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公开(公告)号： JP5387605B2公开(公告)日： 2014-01-15
- 发明人: 正義 提箸 , 幸士 長谷川 , 武志 佐々見
- 申请人： 信越化学工業株式会社
- 专利权人： 信越化学工業株式会社
- 当前专利权人： 信越化学工業株式会社
- 优先权： JP2010088537 2010-04-07
- 主分类号： C08F20/28
- IPC分类号： C08F20/28 ; C07C69/533 ; G03F7/004 ; G03F7/039 ; G03F7/38
摘要：
A fluorinated monomer has formula (1) wherein R1 is H, F, methyl or trifluoromethyl, R2 and R3 are H or a monovalent hydrocarbon group, R4 to R6 each are a monovalent fluorinated hydrocarbon group, A is a divalent hydrocarbon group, and k1 is 0, 1 or 2. A polymer derived from the fluorinated monomer may be endowed with appropriate water repellency, water slip, acid lability and hydrolysis and is useful as an additive polymer in formulating a resist composition.
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