ペリクルフレーム、ペリクル、ペリクル付露光原版及び露光方法、並びに半導体装置又は液晶表示板の製造方法

    公开(公告)号:JP2022000709A

    公开(公告)日:2022-01-04

    申请号:JP2021157022

    申请日:2021-09-27

    发明人: 簗瀬 優

    IPC分类号: G03F1/64

    摘要: 【課題】フレーム由来の散乱光を防止し、フレーム表面に付着した異物を確実かつ容易に検出することができるペリクルフレーム、ペリクル、ペリクル付露光原版及び露光方法、並びに半導体装置又は液晶表示板の製造方法を提供することを目的とする。 【解決手段】本発明は、ペリクル膜を設ける上端面とフォトマスクに面する下端面とを有する枠状のペリクルフレームであって、該ペリクルフレームの内側面には、粗さ曲線のクルトシス(Rku)が3.0以下である領域を有することを特徴とするペリクルフレーム、ペリクル、ペリクル付露光原版及び露光方法、並びに半導体装置又は液晶表示板の製造方法を提供する。 【選択図】図1

    シリコーン組成物、及び高熱伝導性を有する熱伝導性シリコーン硬化物

    公开(公告)号:JP2021195499A

    公开(公告)日:2021-12-27

    申请号:JP2020105089

    申请日:2020-06-18

    摘要: 【課題】 本発明は、高い熱伝導性を有し、圧縮性に優れた熱伝導性シリコーン組成物の硬化物を提供することを目的とする。 【解決手段】 オルガノ(ポリ)シロキサン及び熱伝導性フィラーを含有するシリコーン組成物であり、前記オルガノ(ポリ)シロキサンは少なくとも1つの硬化性オルガノ(ポリ)シロキサンを含み、 該熱伝導性フィラーは(B−i)平均粒径20μm以上及び120μm以下を有する非焼結の窒化アルミニウムと、(B−ii)平均粒径0.1μm以上及び5μm以下を有するアルミナとからなり、 前記(B−ii)アルミナは不定形アルミナ及び球状アルミナであり、該(B−ii)成分の全質量に対する球状アルミナの含有量が25〜80質量%であること、 前記(B−ii)成分の割合が、前記(B−i)及び(B−ii)成分の合計質量に対して25〜50質量%であること、及び、 該シリコーン組成物の総体積に対する前記熱伝導性フィラーの体積の割合が80〜90体積%であることを特徴とする、前記シリコーン組成物。 【選択図】なし

    ケイ素含有テトラカルボン酸二無水物、その製造方法およびポリイミド樹脂

    公开(公告)号:JP2021195319A

    公开(公告)日:2021-12-27

    申请号:JP2020101513

    申请日:2020-06-11

    发明人: 木村 真司

    IPC分类号: C08G73/14 C07F7/08

    摘要: 【課題】有機溶剤への溶解性および光透過性に優れるポリイミド樹脂を与えるケイ素含有テトラカルボン酸二無水物を提供すること。 【解決手段】下記一般式(1)で表されるケイ素含有テトラカルボン酸二無水物。 (式中、R 1 は、一価炭化水素基であり、R 2 は、水素原子または一価炭化水素基であり、Aは、式(2) で表される二価の基であり、破線は、結合手を表す。) 【選択図】なし

    量子ドットの製造方法
    8.
    发明专利

    公开(公告)号:JP2021195281A

    公开(公告)日:2021-12-27

    申请号:JP2020102926

    申请日:2020-06-15

    摘要: 【課題】 粒子径の制御を行い、大スケールの合成においても均一な粒子径のナノ粒子を得ることができる量子ドットの製造方法を提供することを目的とする。 【解決手段】 ペロブスカイト型の量子ドットの製造方法であって、それぞれ異なる元素を含む複数の前駆体溶液を用い、前記複数の前駆体溶液をそれぞれ加熱し、前記前駆体溶液のエアロゾルとしてそれぞれ噴霧し、複数の前記エアロゾルを衝突させて気相反応させ、溶媒に滴下することにより前記異なる元素を含むコア粒子を合成する量子ドットの製造方法。 【選択図】図1

    マスクブランクス用ガラス基板
    9.
    发明专利

    公开(公告)号:JP2021193436A

    公开(公告)日:2021-12-23

    申请号:JP2020099745

    申请日:2020-06-09

    IPC分类号: C03C3/062 C03C19/00 G03F1/60

    摘要: 【課題】高平坦、低欠陥で、粗さが小さい表面を有し、反射膜成膜後のEUV光の反射率が十分に高く、最先端用途のEUVLマスクブランクス用基板として好適なマスクブランクス用ガラス基板を提供する。 【解決手段】10μm×10μmの領域の表面形状を原子間力顕微鏡で測定して得られる、空間周波数0.1μm -1 以上20μm -1 以下の環状平均パワースペクトル密度の最大値が、1000nm 4 以下であるマスクブランクス用ガラス基板。 【選択図】なし