Invention Patent
JPWO2013161527A1 多層配線基板及びその製造方法 审中-公开
多层布线板及其制造方法

多層配線基板及びその製造方法
Abstract:
樹脂絶縁層と導体層との密着性を十分に確保することができ、接続信頼性に優れた多層配線基板を提供する。多層配線基板(10)は、複数の樹脂絶縁層(33〜36)及び複数の導体層(42)を交互に積層して多層化したビルドアップ構造を有する。樹脂絶縁層(33〜36)は、下側絶縁層(51)と下側絶縁層(51)上に設けられた上側絶縁層(52)とからなり、上側絶縁層(52)の表面上に導体層(42)が形成される。上側絶縁層(52)は、下側絶縁層(51)よりも薄く形成され、上側絶縁層(52)に占めるシリカフィラーの体積割合は、下側絶縁層(51)に占めるシリカフィラー及びガラスクロスの体積割合よりも少ない。
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