Invention Patent
- Patent Title: ガス分離膜、ガス分離モジュール、ガス分離装置、ガス分離方法及びポリイミド化合物
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Application No.: JP2017029540Application Date: 2017-08-17
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Publication No.: JPWO2018043149A1Publication Date: 2019-03-28
- Inventor: 妹尾 麻慧 , 北村 哲 , 湯本 眞敏 , 原田 基
- Applicant: 富士フイルム株式会社
- Applicant Address: 東京都港区西麻布2丁目26番30号
- Assignee: 富士フイルム株式会社
- Current Assignee: 富士フイルム株式会社
- Current Assignee Address: 東京都港区西麻布2丁目26番30号
- Agent 特許業務法人イイダアンドパートナーズ; 飯田 敏三; 赤羽 修一
- Priority: JP2016168768 2016-08-31
- Main IPC: B01D69/10
- IPC: B01D69/10 ; B01D69/12 ; B01D69/02 ; B01D53/22 ; C08G73/10 ; B01D71/64
Abstract:
高圧条件下の使用においてもガス透過性とガス分離選択性の両立を十分なレベルで実現し、可塑化耐性にも優れたガス分離膜、このガス分離膜を用いたガス分離モジュール、ガス分離装置及びガス分離方法を提供する。上記ガス分離膜のガス分離層の原料として好適なポリイミド化合物を提供する。ガス分離膜は、ポリイミド化合物を含むガス分離層を有し、ポリイミド化合物が式(I)で表される繰り返し単位を含む。ガス分離モジュール、ガス分離装置及びガス分離方法は上記ガス分離膜を用いる。 R a は特定の4価の基を示し、R b は特定の環を有する3価の基を示す。X a は特定の置換基を示し、X b は水素原子又は置換基を示す。 式(1−b)又は(1−c)で表されるポリイミド化合物。 R a は特定の4価の基を示し、R c は特定の2価の基を示す。A a 、A b 、A c 及びX b は水素原子又は置換基を示し、X c 及びX d は特定の置換基を示す。
Public/Granted literature
- JP2018134163A 球体を間欠的に排出する装置 Public/Granted day:2018-08-30
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