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公开(公告)号:JPWO2018043149A1
公开(公告)日:2019-03-28
申请号:JP2017029540
申请日:2017-08-17
Applicant: 富士フイルム株式会社
Abstract: 高圧条件下の使用においてもガス透過性とガス分離選択性の両立を十分なレベルで実現し、可塑化耐性にも優れたガス分離膜、このガス分離膜を用いたガス分離モジュール、ガス分離装置及びガス分離方法を提供する。上記ガス分離膜のガス分離層の原料として好適なポリイミド化合物を提供する。ガス分離膜は、ポリイミド化合物を含むガス分離層を有し、ポリイミド化合物が式(I)で表される繰り返し単位を含む。ガス分離モジュール、ガス分離装置及びガス分離方法は上記ガス分離膜を用いる。 R a は特定の4価の基を示し、R b は特定の環を有する3価の基を示す。X a は特定の置換基を示し、X b は水素原子又は置換基を示す。 式(1−b)又は(1−c)で表されるポリイミド化合物。 R a は特定の4価の基を示し、R c は特定の2価の基を示す。A a 、A b 、A c 及びX b は水素原子又は置換基を示し、X c 及びX d は特定の置換基を示す。
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公开(公告)号:JP2017131856A
公开(公告)日:2017-08-03
申请号:JP2016015325
申请日:2016-01-29
Applicant: 富士フイルム株式会社
IPC: B01D69/10 , B01D69/12 , B01D71/82 , B01D53/22 , C07C9/04 , C07C7/144 , C08G73/10 , B32B27/34 , B01D71/64
Abstract: 【課題】高圧条件下においても優れたガス透過性と優れたガス分離選択性の両立が可能で、高速、高選択性のガス分離を可能とするガス分離膜、それを用いたガス分離モジュール、ガス分離装置及びガス分離方法の提供。 【解決手段】ポリイミド化合物が下記式(I)又は(II)で表される繰り返し単位を含み、臭素原子及びヨウ素原子の含有量が合計で5質量%以上であるポリイミド化合物を含有してなるガス分離層を有するガス分離膜。 (Xはハロゲン;n 1 及びm 1 は1〜4の整数;R 1 は水素原子H、又はハロゲン原子以外の置換基;Lは2価の連結基Rは特定構造の母核) 【選択図】図1
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公开(公告)号:JPWO2017145905A1
公开(公告)日:2018-11-22
申请号:JP2017005648
申请日:2017-02-16
Applicant: 富士フイルム株式会社
CPC classification number: B01D53/22 , B01D69/10 , B01D69/12 , B01D71/64 , C07C7/144 , C07C9/04 , C08G73/10
Abstract: 高圧条件下の使用においても、優れたガス透過性と優れたガス分離選択性の両立を高度なレベルで実現することができ、高速、高選択性のガス分離を可能とするポリイミド化合物、ガス分離膜、それを用いたガス分離モジュール、ガス分離装置、及びガス分離方法を提供する。 ガス分離膜は、ポリイミド化合物を含有してなるガス分離層を有し、上記ポリイミド化合物が、下記式(1)で表される繰り返し単位を含む。 式(1)中、A 1 〜A 16 はそれぞれ独立に−CH−または−N=を示す。R 11 及びR 12 はそれぞれ独立に置換基を示す。n11はそれぞれ独立に0〜3の整数であり、n12はそれぞれ独立に0〜4の整数である。X 11 及びX 12 はそれぞれ独立に単結合、−CR 13 R 14 −、−O−、−S−、−NR 15 −を示す。R 13 、R 14 、R 15 は水素原子又は置換基を示す。ただし、X 11 及びX 12 がともに単結合になることはない。Rは特定構造の母核を示す。
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公开(公告)号:JP2019010631A
公开(公告)日:2019-01-24
申请号:JP2017129914
申请日:2017-06-30
Applicant: 富士フイルム株式会社
Abstract: 【課題】十分なガス分離選択性を有し、可塑化耐性に優れ、ガス透過性にも優れたガス分離膜、当該ガス分離膜を用いたガス分離モジュール、ガス分離装置及びガス分離方法の提供。 【解決手段】ポリイミド化合物及び式(I)で表される化合物を構成材料として含むガス分離層1を有するガス分離膜10、ガス分離膜10を用いたガス分離モジュール、ガス分離装置及びガス分離方法。A a −(X) n (I)(A a はn価の飽和炭化水素基、n価の芳香族炭化水素基又は飽和炭化水素基及び芳香族炭化水素基から選ばれる2つ以上の基を連結してなるn価の基;nは2〜6の整数、但し、A a は無置換の直鎖アルキレン基を除く;Xはカルボキシ基、アミド基、カルバメート基、ウレア基又はスルホンアミド基から成る水素結合性基;但し、1級アミノ基、2級アミノ基、ヒドロキシル基、及びチオール基を有しない) 【選択図】図1
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公开(公告)号:JP6626980B2
公开(公告)日:2019-12-25
申请号:JP2018536998
申请日:2017-07-12
Applicant: 富士フイルム株式会社
IPC: C07C311/46 , C07C309/88 , C08G73/10 , C08G18/78 , C08G18/38 , C08G69/42 , C07C311/39
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公开(公告)号:JPWO2018042894A1
公开(公告)日:2019-03-22
申请号:JP2017025347
申请日:2017-07-12
Applicant: 富士フイルム株式会社
IPC: C07C311/46 , C08G73/10 , C08G18/78 , C08G18/38 , C08G69/42 , C07C311/39
Abstract: 機能性高分子化合物の合成原料等として有用な新規m−フェニレンジアミン化合物を提供する。上記の新規m−フェニレンジアミン化合物を用いた高分子化合物の製造方法を提供する。m−フェニレンジアミン化合物は、下記一般式(I)、(II)又は(III)で表される。 R 1 は水素原子、アルキル基、シクロアルキル基又はアリール基を示す。R 2 、R 3 及びR 4 はアルキル基を示す。R 5 及びR 6 はアルキル基を示す。Xは塩素原子または臭素原子を示す。高分子化合物の製造方法は、上記一般式(I)で表されるm−フェニレンジアミン化合物を原料として高分子化合物を得ることを含む。
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