发明专利
- 专利标题： 洗浄液、洗浄方法及び半導体ウェハの製造方法
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申请号： JP2018037429申请日： 2018-10-05
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公开(公告)号： JPWO2019073931A1公开(公告)日： 2020-11-05
- 发明人: 原田 憲 , 竹下 祐太朗 , 柴田 俊明 , 竹下 寛
- 申请人： 三菱ケミカル株式会社
- 申请人地址： 東京都千代田区丸の内1−1−1
- 专利权人： 三菱ケミカル株式会社
- 当前专利权人： 三菱ケミカル株式会社
- 当前专利权人地址： 東京都千代田区丸の内1−1−1
- 代理商 特許業務法人栄光特許事務所
- 优先权： JP2017196812 2017-10-10 JP2017204135 2017-10-23
- 主分类号： C11D17/08
- IPC分类号： C11D17/08 ; C11D1/34 ; C11D1/06 ; C11D1/29 ; C11D3/33 ; C11D3/20 ; H01L21/304
摘要：
ポリオキシアルキレンアルキルエーテルリン酸、ポリオキシアルキレンアルキルエーテル酢酸及びポリオキシアルキレンアルキルエーテルスルホン酸からなる群より選ばれる少なくとも1種の界面活性剤(A)とキレート剤(C)とを含み、pHが8以上である洗浄液、及び、酸化剤(B)及びキレート剤(C)を含み、pHが8以上である洗浄液。
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