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    洗浄剤組成物
    1.
    发明专利
    洗浄剤組成物 审中-公开

    公开(公告)号：JP2021155500A

    公开(公告)日：2021-10-07

    申请号：JP2020054651

    申请日：2020-03-25

    申请人： 花王株式会社

    发明人： 浅井 康平 ,  野川 一義 ,  舟尾 充司 ,  鈴木 武史

    IPC分类号： C11D3/30 ,  C11D1/04 ,  C11D1/29 ,  C11D1/22 ,  C11D1/14 ,  C11D1/28 ,  C11D1/34 ,  C11B9/00 ,  C11D3/50

    摘要： 【課題】香料成分由来の香りを抑制しつつ、アニオン性界面活性剤及びアルカノールアミン類による特異臭を好適にマスキングした洗浄剤組成物の提供。 【解決手段】成分(A)〜(C)及び水を含有し、成分(A)の含有量が0.4〜5質量%、質量比(A)/(B)が0.01〜0.5、質量比(A)/(C)が0.1〜10.0である洗浄剤組成物。(A):成分(A1)を80質量%以上含む香料組成物。(A1):下記一般式で表されるジャスモン酸類又はジャスモン酸類似化合物。 (B):アニオン性界面活性剤。(C):アルカノールアミン。 【選択図】なし

    表面処理組成物及びその製造方法、表面処理方法、並びに半導体基板の製造方法
    3.
    发明专利
    表面処理組成物及びその製造方法、表面処理方法、並びに半導体基板の製造方法 审中-公开

    公开(公告)号：JPWO2018163617A1

    公开(公告)日：2019-12-26

    申请号：JP2018001646

    申请日：2018-01-19

    申请人： 株式会社フジミインコーポレーテッド

    发明人： 石田 康登

    IPC分类号： C11D1/12 ,  C11D3/37 ,  C11D1/14 ,  C11D1/29 ,  C11D1/28 ,  C11D1/34 ,  C11D3/36 ,  C09K3/00 ,  H01L21/304 ,  C11D1/22

    摘要： 【課題】窒化ケイ素、酸化ケイ素、又はポリシリコンを含む研磨済研磨対象物表面の残渣を十分に除去する手段を提供することを目的とする。 【解決手段】分子量が1,000以下であるアニオン性界面活性剤と、水と、を含有し、pHが7未満である表面処理用組成物であって、アニオン性界面活性剤の疎水部の分子量に対する、親水部の分子量の割合(親水部の分子量/疎水部の分子量)が0.4以上であり(ここで、疎水部は炭素数4以上の炭化水素基であり、親水部は疎水部及び対イオンを除いた部分であり)、窒化ケイ素、酸化ケイ素、及びポリシリコンからなる群から選択される少なくとも1種を含む研磨済研磨対象物を表面処理するために用いられる、表面処理組成物。 【選択図】なし

    洗浄用組成物および洗浄方法
    9.
    发明专利
    洗浄用組成物および洗浄方法 审中-公开
    清洁组合物和清洁方法

    公开(公告)号：JP2016171294A

    公开(公告)日：2016-09-23

    申请号：JP2015100014

    申请日：2015-05-15

    申请人： JSR株式会社

    发明人： 羽山 孝弘 ,  荒川 愛 ,  櫛田 悠貴 ,  三ツ元 清孝 ,  亀井 康孝 ,  野田 昌宏 ,  山中 達也

    IPC分类号： C11D1/04 ,  C11D1/14 ,  C11D3/20 ,  C11D3/30 ,  C11D3/37 ,  C11D1/34 ,  H01L21/304

    CPC分类号： C11D11/0047 ,  C11D1/37 ,  C11D3/2075 ,  C11D3/2082 ,  C11D3/30 ,  C11D3/33 ,  C11D3/3409 ,  C11D3/36 ,  C11D3/361 ,  C11D3/3707 ,  C11D3/3757 ,  C11D7/265 ,  C11D7/3209 ,  C11D7/3218 ,  C11D7/34 ,  C11D7/36 ,  C11D1/146

    摘要： 【課題】配線基板に用いられる配線材料およびバリアメタル材料の腐食や欠陥の発生を同時に抑制すると共に、配線基板上の金属酸化膜や有機残渣を効率的に除去することができる洗浄用組成物、およびそれを用いた洗浄方法を提供する。 【解決手段】本発明に係る洗浄用組成物は、(A)炭素数8〜20の炭化水素基を有する脂肪酸、炭素数3〜20の炭化水素基を有するホスホン酸、炭素数3〜20の炭化水素基を有する硫酸エステル、炭素数3〜20の炭化水素基を有するアルケニルコハク酸、及びこれらの塩よりなる群から選択される少なくとも1種の化合物、(B)有機酸、(C)水溶性アミン、(D)水溶性重合体、および水系媒体を含み、pHが9以上であることを特徴とする。 【選択図】図1

    摘要翻译： 要解决的问题：提供一种可以同时抑制布线材料和用于布线板的阻挡金属材料的腐蚀的缺陷组合物，以及缺陷的发生，并有效地除去金属氧化物膜和有机残留物 线路板以及利用该清洗组合物的清洗方法。本发明的清洗组合物含有（A）至少一种选自脂肪酸的化合物，所述脂肪酸包括具有8-20个碳原子的烃基 原子，包括具有3-20个碳原子的烃基的膦酸，包含具有3-20个碳原子的烃基的硫酸酯，包含具有3-20个碳原子的烃基的烯基琥珀酸，以及盐 ，（B）有机酸，（C）水溶性胺，（D）水溶性聚合物和水性介质，所述清洗组合物的pH为9以上。 ： 图1