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发明专利
JPWO2019187803A1 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、レジスト膜、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法 有权

感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、レジスト膜、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法
摘要：
高感度であり、且つ、形成されるパターンが倒れ抑制性に優れる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を提供する。また、上記感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を用いたレジスト膜、パターン形成方法、及び電子デバイスの製造方法を提供する。感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物と、酸の作用により極性が増大する樹脂と、を含み、上記樹脂が、一般式(B−1)で表される繰り返し単位を含み、かつ、フッ素原子及びヨウ素原子からなる群より選ばれる少なくとも1種のハロゲン原子を含む。
摘要（英）：

Provided is an active-ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which has high sensitivity and can be formed into a pattern having excellent collapse resistance. Also provided are: a resist film using the active-ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition; a method for forming a pattern; and a method for manufacturing an electronic device. The active-ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition contains a compound which can generate an acid upon the irradiation with an active ray or an radioactive ray and a resin of which the polarity can increase by the action of an acid, wherein the resin contains a repeating unit represented by general formula (B-1) and also contains at least one halogen atom selected from the group consisting of a fluorine atom and an iodine atom.

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