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发明授权
KR101058131B1 감광성 조성물 및 그것을 사용한 패턴형성방법 有权
光敏组合物和使用其形成图案的方法

  • 专利标题： 감광성 조성물 및 그것을 사용한 패턴형성방법
  • 专利标题（英）： The photosensitive composition and pattern forming method using the same
  • 专利标题（中）： 光敏组合物和使用其形成图案的方法
  • 申请号： KR1020040072682
    申请日： 2004-09-10
  • 公开(公告)号： KR101058131B1
    公开(公告)日： 2011-08-24
  • 发明人: 코다마쿠니히코 , 와다켄지 , 사토켄이치로
  • 申请人： 후지필름 가부시키가이샤
  • 申请人地址： *-**-**, Nishi Azabu, Minato-ku, Tokyo, Japan
  • 专利权人： 후지필름 가부시키가이샤
  • 当前专利权人： 후지필름 가부시키가이샤
  • 当前专利权人地址： *-**-**, Nishi Azabu, Minato-ku, Tokyo, Japan
  • 代理商 하상구; 하영욱
  • 优先权： JPJP-P-2003-00318276 2003-09-10; JPJP-P-2003-00327608 2003-09-19; JPJP-P-2003-00333503 2003-09-25
  • 主分类号： G03F7/039
  • IPC分类号： G03F7/039
감광성 조성물 및 그것을 사용한 패턴형성방법
摘要：
활성광선 또는 방사선에 의한 조사로 복수의 술폰기를 갖는 특정산을 발생시킬 수 있는 화합물을 함유하는 감광성 조성물 및 그것을 사용한 패턴형성방법.
摘要（中）：

一种感光性组合物，其包含通过照射光化射线或放射线而能够产生具有多个砜基的特定酸的化合物以及使用其的图案形成方法。

摘要（英）：

The photosensitive composition and pattern forming method using the same, which contains a compound capable of generating an acid having a plurality of specific sulfone upon irradiation with an actinic ray or radiation.

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