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    임프린트용 경화성 조성물, 패턴 형성 방법 및 패턴
    3.
    发明公开
    임프린트용 경화성 조성물, 패턴 형성 방법 및 패턴 有权
    用于印刷的可固化组合物，形成图案和图案的方法

    公开(公告)号：KR1020130023092A

    公开(公告)日：2013-03-07

    申请号：KR1020120090546

    申请日：2012-08-20

    申请人： 후지필름 가부시키가이샤

    发明人： 에노모토유이치로 ,  코다마쿠니히코 ,  타루타니신지 ,  키타가와히로타카 ,  오오마츠타다시

    IPC分类号： C08F20/10 ,  C08L33/04 ,  G03F7/004 ,  H01L21/027

    CPC分类号： C09D133/16 ,  C08L2312/00 ,  Y10T428/24802 ,  C08F20/10 ,  C08L33/04 ,  G03F7/004 ,  G03F7/0045 ,  H01L21/027 ,  H01L21/0271

    摘要： PURPOSE: A curable composition for imprint is provided to have excellent rectangularity and to effectively suppress patterning defects. CONSTITUTION: A curable composition for imprint contains a polymerizable compound, a photopolymerizable initiator, and a non-polymerizable compound. The dissolution of the non-polymerizable compound is exothermic with respect to the curable composition for imprint. The non-polymerizable compound is a compound with a molecular weight of 500 or more. A patterning method comprises a step of applying the curable composition for imprint to a mold with micropattern; and a step of light irradiation of the curable composition for imprint with the mold.

    摘要翻译： 目的：提供用于压印的可固化组合物以具有优异的矩形性并有效地抑制图案化缺陷。 构成：用于印迹的可固化组合物含有可聚合化合物，光聚合引发剂和不可聚合化合物。 不可聚合化合物的溶解相对于用于印记的可固化组合物是放热的。 不可聚合化合物是分子量为500以上的化合物。 图案化方法包括将具有微图案的印模用固化性组合物涂布在模具上的工序; 以及用于印模的可固化组合物的光照射步骤。

    액침 노광용 포지티브 레지스트 조성물 및 이를 사용한 패턴 형성방법
    4.
    发明授权
    액침 노광용 포지티브 레지스트 조성물 및 이를 사용한 패턴 형성방법 有权
    用于浸没暴露的积极抵抗组合物及其形成图案的方法

    公开(公告)号：KR101238315B1

    公开(公告)日：2013-02-28

    申请号：KR1020050013835

    申请日：2005-02-19

    申请人： 후지필름 가부시키가이샤

    发明人： 코다마쿠니히코 ,  칸다히로미

    IPC分类号： G03F7/004

    CPC分类号： G03F7/0046 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041

    摘要： 본 발명은 (A)산의 작용에 의해 알칼리성 현상액에 대한 용해도가 증가하는 수지 및 (B)활성광선 또는 방사선으로 조사하여 산을 발생시키는 화합물로서, (Ba)양이온부에 특정 알킬 또는 시클로알킬 잔기를 갖는 술포늄염 화합물, (Bb)양이온부에 특정 알킬 또는 시클로알킬 잔기를 갖는 술포늄염 화합물 및 (Bc)음이온부에 특정 알킬 또는 시클로알킬 잔기를 갖는 술포늄염 화합물로부터 선택된 화합물을 포함하는 액침 노광용 포지티브 레지스트 조성물; 및 상기 조성물을 사용한 패턴 형성방법에 관한 것이다.

    감활성광선성 또는 감방사선성 수지 조성물, 및 이 조성물을 사용한 레지스트막과 패턴 형성 방법
    6.
    发明公开
    감활성광선성 또는 감방사선성 수지 조성물, 및 이 조성물을 사용한 레지스트막과 패턴 형성 방법 无效
    活性敏感性或辐射敏感性树脂组合物，以及使用其的耐蚀膜和图案形成方法

    公开(公告)号：KR1020120092015A

    公开(公告)日：2012-08-20

    申请号：KR1020120007556

    申请日：2012-01-26

    申请人： 후지필름 가부시키가이샤

    发明人： 시부야아키노리 ,  야마구치슈헤이 ,  코다마쿠니히코 ,  와다켄지 ,  마츠다토모키

    IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/027 ,  G03F7/20

    CPC分类号： G03F7/0397 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/2041 ,  Y10T428/24479 ,  G03F7/0047 ,  G03F7/027

    摘要： PURPOSE: An active ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, a resist film based on the composition, and a pattern forming method based on the composition are provided to form rectangular-shaped patterns. CONSTITUTION: An active ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition includes a compound represented by chemical I and a resin. The compound generates acid by the radiation of active rays or radiation rays. The dissolution of the resin to an alkali developing solution is increased by the action of the acid. In chemical formula I, X is O, S, or -N(Rx)-; R1 and R2 are respectively alkyl groups, cycloalkyl groups, or aryl groups; R3-R9 respectively hydrogen atoms, alkyl groups, cycloalkyl groups, alkoxy groups, alkoxycarbonyl groups, acyl groups, alkylcarbonyloxy groups, aryl groups, aryloxy groups, aryloxycarbonyl groups, or arylcarbonyloxy groups; Rx is a hydrogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group, an acyl group, an alkenyl group, an alkoxycarbonyl group, an aryl, an arylcarbonyl group, or an aryloxycarbonyl group; R1 and R2 are capable of forming a ring; two or more of R6-R9, R3 and R9, R4 and R5, R5 and Rx, and R6 and Rx are respectively capable of forming rings; Xf is respectively F or at least one F substituted alkyl group; R10 and R11 are respectively hydrogen atoms, fluorine atoms, or alkyl groups and R10 and R11 are respectively identical or different if the numbers of R10 and R11 are plural; L is a divalent coupling group and is identical or different if the number of L is plural; A is a cyclic organic group; W is (O3S-)^-, -RfSO_2-(N^-)-SO_2-, Rf-CO-(N^-)-SO_2-, Rf-SO_2-(N^-)-CO-; and Rf is an at least one F substituted alkyl group.

    摘要翻译： 目的：提供主动射线敏感或辐射敏感性树脂组合物，基于组合物的抗蚀剂膜和基于该组合物的图案形成方法以形成矩形图案。 构成：活性射线敏感或辐射敏感性树脂组合物包括由化学I和树脂表示的化合物。 该化合物通过活性射线或辐射线的辐射产生酸。 通过酸的作用，树脂向碱性显影液的溶解增加。 在化学式I中，X为O，S或-N（Rx） - ; R1和R2分别是烷基，环烷基或芳基; R3-R9分别是氢原子，烷基，环烷基，烷氧基，烷氧基羰基，酰基，烷基羰基氧基，芳基，芳氧基，芳氧基羰基或芳基羰基氧基; Rx是氢原子，烷基，环烷基，酰基，烯基，烷氧基羰基，芳基，芳基羰基或芳氧基羰基; R1和R2能够形成环; R6-R9，R3和R9，R4和R5，R5和Rx中的两个或更多个，R6和Rx分别可以形成环; Xf分别为F或至少一个F取代的烷基; R10和R11分别是氢原子，氟原子或烷基，并且如果R10和R11的数目是多个，R10和R11分别相同或不同; L是二价连接基团，如果L的数目是多个，则相同或不同; A为环状有机基团; W是（O 3 S - ） - - ， - SO 2 - （N - ） - SO 2 - ，R f -CO-（N 2 - ） - SO 2 - ，R f -SO 2 - （N 1 - ） - CO-; 并且Rf是至少一个F取代的烷基。

    유지보수액
    8.
    发明公开
    유지보수액 审中-实审
    维护液

    公开(公告)号：KR1020120002452A

    公开(公告)日：2012-01-05

    申请号：KR1020110062452

    申请日：2011-06-27

    申请人： 후지필름 가부시키가이샤

    发明人： 코다마쿠니히코 ,  코다마켄이치

    IPC分类号： C11D7/26 ,  B41J2/165

    CPC分类号： G03F7/0045 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  C11D3/0063 ,  C11D3/2068 ,  C11D3/2093 ,  C11D7/263 ,  C11D7/266 ,  G03F7/0002 ,  C11D7/26 ,  B41J2/165 ,  C11D7/00

    摘要： PURPOSE: Maintenance liquid is provided to reduce the defect of pattern transfer in case of ultra fine pattern transferring. CONSTITUTION: Maintenance liquid comprises compounds containing an ester and/or an ether functional group. The maintenance liquid is used for a pattern forming method including: a step of discharging a photo curable composition mainly containing polymerizable monomers, on a substrate or a mold having ultra fine patterns, by using ink-jet device; and a step of photo-radiating with a state inserted by the substrate and the mold.

    摘要翻译： 目的：提供维护液，以减少在超细图案转印的情况下图案转印的缺陷。 构成：维护液体包含含有酯和/或醚官能团的化合物。 维护液用于图案形成方法，包括：通过使用喷墨装置将主要含有可聚合单体的光固化组合物，在具有超细图案的基材或模具上排出的步骤; 以及由基板和模具插入的状态进行光辐射的步骤。