发明授权
- 专利标题: 패턴화 기판의 제조 방법
- 专利标题(英): Preparation method of patterened substrate
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申请号: KR1020150138200申请日: 2015-09-30
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公开(公告)号: KR101756538B1公开(公告)日: 2017-07-11
- 发明人: 구세진 , 이미숙 , 유형주 , 김정근 , 윤성수 , 박노진 , 이제권 , 최은영
- 申请人: 주식회사 엘지화학
- 申请人地址: ***, Yeoui-daero, Yeongdeungpo-gu, Seoul, Republic of Korea
- 专利权人: 주식회사 엘지화학
- 当前专利权人: 주식회사 엘지화학
- 当前专利权人地址: ***, Yeoui-daero, Yeongdeungpo-gu, Seoul, Republic of Korea
- 代理商 특허법인다나
- 优先权: KR1020140131964 2014-09-30; KR1020150079469 2015-06-04
- 主分类号: H01L21/027
- IPC分类号: H01L21/027 ; H01L51/00 ; H01L21/28 ; H01L21/02
摘要:
본출원은, 패턴화기판의제조방법에대한것이다. 상기방법은, 예를들면, 전자디바이스및 집적회로와같은장치의제조공정또는다른용도, 예컨대집적광학시스템, 자기도메인메모리의가이던스및 검출패턴, 평판디스플레이, 액정디스플레이(LCD), 박막자기헤드또는유기광 방출다이오드등의제조에적용될수 있고, 집적회로, 비트-패턴화된매체및/또는하드드라이브와같은자기저장디바이스등의개별트랙매체(discrete track medium)의제조에사용하기위해표면위에패턴을구축하는데사용될수 있다.
公开/授权文献
- KR1020160038870A 패턴화 기판의 제조 방법 公开/授权日:2016-04-07
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