- 专利标题： 폴리머, 포토레지스트 조성물 및 포토리소그래피 패턴의 형성 방법
- 专利标题（英）： KR101904090B1 - Polymers, photoresist compositions and methods of forming photolithographic patterns
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申请号： KR1020120000210申请日： 2012-01-02
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公开(公告)号： KR101904090B1公开(公告)日： 2018-10-04
- 发明人: 배영철 , 메이어매튜엠. , 순지빈 , 이승현 , 박종근
- 申请人： 롬 앤드 하스 일렉트로닉 머트어리얼즈 엘엘씨 , 다우 글로벌 테크놀로지스 엘엘씨
- 申请人地址： *** FOREST STREET, MARLBOROUGH, MASSACHUSETTS ***** U.S.A.
- 专利权人： 롬 앤드 하스 일렉트로닉 머트어리얼즈 엘엘씨,다우 글로벌 테크놀로지스 엘엘씨
- 当前专利权人： 롬 앤드 하스 일렉트로닉 머트어리얼즈 엘엘씨,다우 글로벌 테크놀로지스 엘엘씨
- 当前专利权人地址： *** FOREST STREET, MARLBOROUGH, MASSACHUSETTS ***** U.S.A.
- 代理商 특허법인한성
- 优先权： US61/429,107 2010-12-31
- 主分类号： C08F220/26
- IPC分类号： C08F220/26 ; C08F299/04 ; G03F7/027 ; G03F7/26
摘要：
특정아세탈부분을가지는단위를함유하는폴리머및 이폴리머를함유하는포토레지스트조성물이제공된다. 포토레지스트조성물로코팅된기판및 포토리소그래피패턴형성방법이또한제공된다. 상기조성물, 방법및 코팅기판은반도체디바이스의제조에특히적용가능하다.
公开/授权文献
- KR1020120078672A 폴리머, 포토레지스트 조성물 및 포토리소그래피 패턴의 형성 방법 公开/授权日：2012-07-10
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