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    폴리머, 포토레지스트 조성물 및 포토리소그래피 패턴의 형성 방법
    3.
    发明公开
    폴리머, 포토레지스트 조성물 및 포토리소그래피 패턴의 형성 방법 审中-实审
    聚合物，光电组合物和形成光刻图案的方法

    公开(公告)号：KR1020120078671A

    公开(公告)日：2012-07-10

    申请号：KR1020120000205

    申请日：2012-01-02

    申请人： 롬 앤드 하스 일렉트로닉 머트어리얼즈 엘엘씨 ,  다우 글로벌 테크놀로지스 엘엘씨

    发明人： 배영철 ,  피터슨토마스에이치. ,  류이 ,  박종근 ,  이승현 ,  카르돌라시아토마스

    IPC分类号： C08F20/26 ,  C08G63/08 ,  G03F7/027 ,  G03F7/26

    CPC分类号： G03F7/0397 ,  C08F220/28 ,  G03F7/11 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/322 ,  G03F7/325

    摘要： PURPOSE: A polymer, a photoresist composition comprising the same, a coating substrate using the same, and a photolithography pattern formation method using the same are provided to able to form a negative type image. CONSTITUTION: A polymer comprises a first unit formed from a monomer in chemical formula 1, and a second unit comprising a lactone portion. In chemical formula 1, L is a single bond, or a C1-C10 organic group, R1 is hydrogen, or a C1-C3 alkyl group, each R2 is independently hydrogen, or a C1-C10 organic group, each R3 is independently hydrogen, or a C1-C10 organic group, or randomly forms a ring together with combined common carbon atoms, and each R4 is independently a C1-C10 organic group, or forms a ring together with combined common carbon atoms. The polymer additionally comprises a third unit formed from a monomer which is acid-labile moiety, or alkyloxy (meth)acrylate.

    摘要翻译： 目的：提供聚合物，包含该聚合物的光致抗蚀剂组合物，使用其的涂布基板和使用其的光刻图案形成方法以能够形成负型图像。 构成：聚合物包含由化学式1的单体形成的第一单元和包含内酯部分的第二单元。 在化学式1中，L是单键或C1-C10有机基团，R1是氢或C1-C3烷基，每个R2独立地是氢或C1-C10有机基团，每个R3独立地是氢 或C1-C10有机基团，或者与组合的共同碳原子一起形成环，并且每个R 4独立地为C 1 -C 10有机基团，或与合并的常用碳原子一起形成环。 聚合物另外包含由酸不稳定部分或烷氧基（甲基）丙烯酸酯形成的第三单元。

    폴리머, 포토레지스트 조성물 및 포토리소그래피 패턴의 형성 방법
    10.
    发明公开
    폴리머, 포토레지스트 조성물 및 포토리소그래피 패턴의 형성 방법 审中-实审
    聚合物，光电组合物和形成光刻图案的方法

    公开(公告)号：KR1020120078672A

    公开(公告)日：2012-07-10

    申请号：KR1020120000210

    申请日：2012-01-02

    申请人： 롬 앤드 하스 일렉트로닉 머트어리얼즈 엘엘씨 ,  다우 글로벌 테크놀로지스 엘엘씨

    发明人： 배영철 ,  메이어매튜엠. ,  순지빈 ,  이승현 ,  박종근

    IPC分类号： C08F220/26 ,  C08F299/04 ,  G03F7/027 ,  G03F7/26

    CPC分类号： G03F7/2041 ,  C08F220/28 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/325

    摘要： PURPOSE: A polymer, a photoresist composition comprising the same, a coating substrate using the same, and a photolithography pattern formation method using the same are provided to reduce thickness reduction at photolithography treatment, and to improve pattern collapse margin, dismemberment and photo rate, thereby capable of forming a negative image. CONSTITUTION: A polymer comprises a first unit formed from a monomer in chemical formula 1, and a second unit comprising a lactone portion. In chemical formula 1, R1 is a single bond, or a C1-C3 alkyl group, each R2 is independently hydrogen, or a C1-C10 organic group, each R3 is independently hydrogen, or a C1-C10 organic group, each R4 is independently a C1-10 organic group, or forms a ring together with combined common carbon atoms, and each R5 is independently a C1-C10 organic group, or randomly forms a ring together. The polymer additionally comprises a third unit different with the first unit and the second unit. The third unit comprises ether, ester, a polar group, or acid-labile moiety.

    摘要翻译： 目的：提供一种聚合物，包含该聚合物的光致抗蚀剂组合物，使用其的涂布基板和使用其的光刻图案形成方法，以减少光刻处理时的厚度减小，并提高图案折叠边缘，分解和照相率， 从而能够形成负像。 构成：聚合物包含由化学式1的单体形成的第一单元和包含内酯部分的第二单元。 在化学式1中，R1是单键或C1-C3烷基，每个R2独立地是氢或C1-C10有机基团，每个R3独立地是氢或C1-C10有机基团，每个R4是 独立地为C 1-10有机基团，或与共同的碳原子一起形成环，每个R 5独立地为C 1 -C 10有机基团，或者一起形成环。 聚合物还包括与第一单元和第二单元不同的第三单元。 第三单元包括醚，酯，极性基团或酸不稳定部分。