发明专利
TW200828474A 半導體裝置之製造方法 SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD 审中-公开
半导体设备之制造方法 SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD

半導體裝置之製造方法 SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD
摘要:
本發明係關於一種半導體裝置之製造方法,該方法包括;a)製備一類型的ASIC晶片;b)製備彼此不同的記憶體晶片;c)製備一共同電路基板;d)製備包括具有記憶體晶片端子及外部連接端子之佈線圖案的基座端子晶片;e)藉由覆晶結合將ASIC晶片安裝於共同電路基板上;f)將基座端子晶片緊固於ASIC晶片上;g)將其中一個記憶體晶片安裝於基座端子晶片上;h)使用第一導線將位於該其中一個記憶體晶片上之端子電連接至記憶體晶片端子;及i)使用第二導線將外部連接端子電連接至位於共同電路基板上之端子。
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