发明专利
TW200828474A 半導體裝置之製造方法 SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD
审中-公开
半导体设备之制造方法 SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD
- 专利标题: 半導體裝置之製造方法 SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD
- 专利标题(英): Semiconductor device manufacturing method
- 专利标题(中): 半导体设备之制造方法 SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD
-
申请号: TW096149165申请日: 2007-12-21
-
公开(公告)号: TW200828474A公开(公告)日: 2008-07-01
- 发明人: 佐藤仁志 HITOSHI SATO , 井上英俊 HIDETOSHI INOUE
- 申请人: 新光電氣工業股份有限公司 SHINKO ELECTRIC INDUSTRIES CO., LTD.
- 申请人地址: 日本
- 专利权人: 新光電氣工業股份有限公司 SHINKO ELECTRIC INDUSTRIES CO., LTD.
- 当前专利权人: 新光電氣工業股份有限公司 SHINKO ELECTRIC INDUSTRIES CO., LTD.
- 当前专利权人地址: 日本
- 代理商 賴經臣; 宿希成
- 优先权: 日本 2006-346753 20061222
- 主分类号: H01L
- IPC分类号: H01L
摘要:
本發明係關於一種半導體裝置之製造方法,該方法包括;a)製備一類型的ASIC晶片;b)製備彼此不同的記憶體晶片;c)製備一共同電路基板;d)製備包括具有記憶體晶片端子及外部連接端子之佈線圖案的基座端子晶片;e)藉由覆晶結合將ASIC晶片安裝於共同電路基板上;f)將基座端子晶片緊固於ASIC晶片上;g)將其中一個記憶體晶片安裝於基座端子晶片上;h)使用第一導線將位於該其中一個記憶體晶片上之端子電連接至記憶體晶片端子;及i)使用第二導線將外部連接端子電連接至位於共同電路基板上之端子。
信息查询