Invention Patent
- Patent Title: 半導體裝置及製造該半導體裝置之方法
- Patent Title (English): Semiconductor device and method of manufacturing the semiconductor device
- Patent Title (中): 半导体设备及制造该半导体设备之方法
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Application No.: TW102138054Application Date: 2013-10-22
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Publication No.: TW201431027APublication Date: 2014-08-01
- Inventor: 清水浩三 , SHIMIZU, KOZO , 作山誠樹 , SAKUYAMA, SEIKI , 宮島豊生 , MIYAJIMA, TOYOO
- Applicant: 富士通股份有限公司 , FUJITSU LIMITED
- Assignee: 富士通股份有限公司,FUJITSU LIMITED
- Current Assignee: 富士通股份有限公司,FUJITSU LIMITED
- Agent 惲軼群; 陳文郎
- Priority: 2013-013433 20130128
- Main IPC: H01L23/488
- IPC: H01L23/488 ; H01L23/538
Abstract:
一種製造一半導體裝置之方法包括:在一佈線基板之一第一電極及一半導體元件之一第二電極之至少一電極的一表面上形成一障壁金屬膜;在該等第一與第二電極之間提供一連接端子,且該連接端子係由含錫、鉍及鋅之焊料構成;及加熱該連接端子且保持該連接端子之溫度在不低於該焊料之一熔點之一固定溫度一段時間,藉此接合該連接端子與該障壁金屬膜。
Public/Granted literature
- TWI579992B 半導體裝置及製造該半導體裝置之方法 Public/Granted day:2017-04-21
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IPC分类: