Invention Patent
- Patent Title: 腔穴內焊料互連結構
- Patent Title (English): Solder in cavity interconnection structures
- Patent Title (中): 腔穴内焊料互链接构
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Application No.: TW104142718Application Date: 2012-03-21
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Publication No.: TW201616627APublication Date: 2016-05-01
- Inventor: 胡傳 , HU, CHUAN , 里夫 蕭納 , LIFF, SHAWNA M. , 克萊門斯 葛瑞格利 , CLEMONS, GREGORY S.
- Applicant: 英特爾股份有限公司 , INTEL CORPORATION
- Assignee: 英特爾股份有限公司,INTEL CORPORATION
- Current Assignee: 英特爾股份有限公司,INTEL CORPORATION
- Agent 林志剛
- Priority: 13/069,601 20110323
- Main IPC: H01L23/488
- IPC: H01L23/488 ; H01L21/60
Abstract:
本發明之揭示係有關製造微電子封裝之領域,其中在被沉積在一第一基材上的一介電層中形成腔穴,以維持各被焊接的互連間之分離。在一實施例中,該等腔穴可具有傾斜側壁。在另一實施例中,可在該等腔穴中沉積一焊料膏,且可在加熱之後形成焊料結構。在其他實施例中,可將該等焊料結構放置在該等腔穴中,或可在該第一基材可被連接到的一第二基材上形成該等焊料結構。在另外的其他實施例中,可在該第一基材及第二基材上形成焊料結構。可使該等焊料結構接觸到且回焊到第二基材上之接觸墊或焊料結構,而將該等焊料結構用來形成焊料互連。
Public/Granted literature
- TWI603446B 腔穴內焊料互連結構 Public/Granted day:2017-10-21
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