Invention Patent
TW201616627A 腔穴內焊料互連結構 审中-公开
腔穴内焊料互链接构

腔穴內焊料互連結構
Abstract:
本發明之揭示係有關製造微電子封裝之領域,其中在被沉積在一第一基材上的一介電層中形成腔穴,以維持各被焊接的互連間之分離。在一實施例中,該等腔穴可具有傾斜側壁。在另一實施例中,可在該等腔穴中沉積一焊料膏,且可在加熱之後形成焊料結構。在其他實施例中,可將該等焊料結構放置在該等腔穴中,或可在該第一基材可被連接到的一第二基材上形成該等焊料結構。在另外的其他實施例中,可在該第一基材及第二基材上形成焊料結構。可使該等焊料結構接觸到且回焊到第二基材上之接觸墊或焊料結構,而將該等焊料結構用來形成焊料互連。
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