发明专利
- 专利标题: 一種半導體裝置
- 专利标题(英): A semiconductor device
- 专利标题(中): 一种半导体设备
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申请号: TW106131570申请日: 2013-07-29
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公开(公告)号: TW201742128A公开(公告)日: 2017-12-01
- 发明人: 呂志強 , LU,CHIH-CHIANG , 林俊宇 , LIN,CHUN-YU , 陳怡名 , CHEN,YI-MING , 林敬倍 , LIN,CHING-PEI , 簡崇訓 , CHIEN,CHUNG-HSUN , 黃建富 , HUANG,CHIEN-FU , 顧浩民 , KU,HAO-MIN , 謝明勳 , HSIEH,MIN-HSUN , 徐子傑 , HSU,TZU-CHIEH
- 申请人: 晶元光電股份有限公司 , EPISTAR CORPORATION
- 申请人地址: 新竹市
- 专利权人: 晶元光電股份有限公司,EPISTAR CORPORATION
- 当前专利权人: 晶元光電股份有限公司,EPISTAR CORPORATION
- 当前专利权人地址: 新竹市
- 主分类号: H01L21/30
- IPC分类号: H01L21/30
摘要:
一半導體裝置,包含一基板具有一第一表面; 一半導體元件位於該第一表面上;以及一黏結結構位於該第一表面與該半導體元件之間,與該半導體元件以及該基板直接接觸;其中,該黏結結構包含一黏結層以及一犧牲層,該黏結層與該犧牲層的材質相異。
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