发明专利
- 专利标题: 封裝結構的形成方法
- 专利标题(英): Methods for forming package structures
- 专利标题(中): 封装结构的形成方法
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申请号: TW105138222申请日: 2016-11-22
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公开(公告)号: TW201807761A公开(公告)日: 2018-03-01
- 发明人: 鄭余任 , CHENG, YU JEN , 黃育智 , HUANG, YU CHIH , 陳志華 , CHEN, CHIH HUA , 陳玉芬 , CHEN, YU FENG , 蔡豪益 , TSAI, HAO YI
- 申请人: 台灣積體電路製造股份有限公司 , TAIWAN SEMICONDUCTOR MANUFACTURING CO., LTD.
- 申请人地址: 新竹市
- 专利权人: 台灣積體電路製造股份有限公司,TAIWAN SEMICONDUCTOR MANUFACTURING CO., LTD.
- 当前专利权人: 台灣積體電路製造股份有限公司,TAIWAN SEMICONDUCTOR MANUFACTURING CO., LTD.
- 当前专利权人地址: 新竹市
- 代理商 洪澄文; 顏錦順
- 优先权: 15/240,422 20160818
- 主分类号: H01L21/60
- IPC分类号: H01L21/60
摘要:
本揭露之實施例提供封裝結構及其形成方法,此方法包含提供第一積體電路晶粒並形成重佈線結構於第一積體電路晶粒上方,形成基底層於重佈線結構上方,基底層具有複數個第一開口和複數個第二開口,且第一開口寬於第二開口,形成複數個第一凸塊於重佈線結構上方,第一凸塊具有下部填入第一開口中。此外,此方法包含透過具有下部填入第二開口中的複數個第二凸塊將第二積體電路晶粒接合至重佈線結構,在第二積體電路晶粒與基底層之間有一空間。此方法也包含形成模塑化合物層於基底層上方,模塑化合物層填入此空間中並圍繞第一凸塊和第二凸塊。
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