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TW201807761A 封裝結構的形成方法 审中-公开
封装结构的形成方法

封裝結構的形成方法
摘要:
本揭露之實施例提供封裝結構及其形成方法,此方法包含提供第一積體電路晶粒並形成重佈線結構於第一積體電路晶粒上方,形成基底層於重佈線結構上方,基底層具有複數個第一開口和複數個第二開口,且第一開口寬於第二開口,形成複數個第一凸塊於重佈線結構上方,第一凸塊具有下部填入第一開口中。此外,此方法包含透過具有下部填入第二開口中的複數個第二凸塊將第二積體電路晶粒接合至重佈線結構,在第二積體電路晶粒與基底層之間有一空間。此方法也包含形成模塑化合物層於基底層上方,模塑化合物層填入此空間中並圍繞第一凸塊和第二凸塊。
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