Invention Patent
- Patent Title: 離子濃度分布測定裝置
- Patent Title (中): 离子浓度分布测定设备
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Application No.: TW107105188Application Date: 2018-02-13
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Publication No.: TW201831893APublication Date: 2018-09-01
- Inventor: 澤田和明 , SAWADA, KAZUAKI , 山本洋夫 , YAMAMOTO, HIROO , 水野誠一郎 , MIZUNO, SEIICHIRO , 若森俊樹 , WAKAMORI, TOSHIKI
- Applicant: 國立大學法人豐橋技術科學大學 , NATIONAL UNIVERSITY CORPORATION TOYOHASHI UNIVERSITY OF TECHNOLOGY , 日商濱松赫德尼古斯股份有限公司 , HAMAMATSU PHOTONICS K.K.
- Assignee: 國立大學法人豐橋技術科學大學,NATIONAL UNIVERSITY CORPORATION TOYOHASHI UNIVERSITY OF TECHNOLOGY,日商濱松赫德尼古斯股份有限公司,HAMAMATSU PHOTONICS K.K.
- Current Assignee: 國立大學法人豐橋技術科學大學,NATIONAL UNIVERSITY CORPORATION TOYOHASHI UNIVERSITY OF TECHNOLOGY,日商濱松赫德尼古斯股份有限公司,HAMAMATSU PHOTONICS K.K.
- Agent 陳長文
- Priority: 2017-027234 20170216
- Main IPC: G01N27/414
- IPC: G01N27/414 ; G01N27/00
Abstract:
離子濃度分布測定裝置具備：單位檢測部10m,n，其輸出與離子濃度相應之量之電荷；及積分電路20n，其輸出與自單位檢測部輸出之電荷之量相應之信號值。單位檢測部10m,n包含：MOS電晶體11、離子感應部12、第1電容部13及傳送用開關14。積分電路20n包含：放大器21、第2電容部22及重設用開關23。藉此可實現不易受雜訊之影響之離子濃度分布測定裝置。
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