发明专利
- 专利标题： 基板處理裝置、基板處理方法及記憶媒體
- 专利标题（中）： 基板处理设备、基板处理方法及记忆媒体
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申请号： TW108125223申请日： 2019-07-17
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公开(公告)号： TW202027129A公开(公告)日： 2020-07-16
- 发明人: 古閑法久 , KOGA, NORIHISA , 小西儀紀 , KONISHI, YOSHITAKA , 飯田成昭 , IIDA, NARUAKI , 大石雄三 , OHISHI, YUZO , 竹下和宏 , TAKESHITA, KAZUHIRO
- 申请人： 日商東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
- 专利权人： 日商東京威力科創股份有限公司,TOKYO ELECTRON LIMITED
- 当前专利权人： 日商東京威力科創股份有限公司,TOKYO ELECTRON LIMITED
- 代理商 林志剛
- 优先权： 2018-144319 20180731
- 主分类号： H01L21/027
- IPC分类号： H01L21/027 ; G03F7/20
摘要：
[課題] 提供一種「在將處理用的光照射至基板之表面的基板處理中，對提高基板之表面內的光之照射量的均勻性有效」之基板處理裝置。 [解決手段] 基板處理裝置(1)，係具備有：光照射部(30)，將處理用的光照射至比晶圓(W)之表面(Wa)的處理對象區域(TA)更小的照射區域(A1)內；驅動部(15)，在沿著晶圓(W)之表面(Wa)的平面內，使照射區域(A1)沿彼此交叉的二方向移動；及控制器(100)，以根據被設定成將光照射至處理對象區域(TA)之整個區域的移動圖案，使照射位置沿二方向移動的方式，控制驅動部(15)。
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