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    基板處理裝置、基板處理方法及記憶媒體
    1.
    发明专利
    基板處理裝置、基板處理方法及記憶媒體 审中-公开
    基板处理设备、基板处理方法及记忆媒体

    公开(公告)号：TW202027129A

    公开(公告)日：2020-07-16

    申请号：TW108125223

    申请日：2019-07-17

    申请人： 日商東京威力科創股份有限公司 ,  TOKYO ELECTRON LIMITED

    发明人： 古閑法久 ,  KOGA, NORIHISA ,  小西儀紀 ,  KONISHI, YOSHITAKA ,  飯田成昭 ,  IIDA, NARUAKI ,  大石雄三 ,  OHISHI, YUZO ,  竹下和宏 ,  TAKESHITA, KAZUHIRO

    IPC分类号： H01L21/027 ,  G03F7/20

    摘要： [課題] 提供一種「在將處理用的光照射至基板之表面的基板處理中，對提高基板之表面內的光之照射量的均勻性有效」之基板處理裝置。 [解決手段] 基板處理裝置(1)，係具備有：光照射部(30)，將處理用的光照射至比晶圓(W)之表面(Wa)的處理對象區域(TA)更小的照射區域(A1)內；驅動部(15)，在沿著晶圓(W)之表面(Wa)的平面內，使照射區域(A1)沿彼此交叉的二方向移動；及控制器(100)，以根據被設定成將光照射至處理對象區域(TA)之整個區域的移動圖案，使照射位置沿二方向移動的方式，控制驅動部(15)。

    简体摘要： [课题] 提供一种“在将处理用的光照射至基板之表面的基板处理中，对提高基板之表面内的光之照射量的均匀性有效”之基板处理设备。 [解决手段] 基板处理设备(1)，系具备有：光照射部(30)，将处理用的光照射至比晶圆(W)之表面(Wa)的处理对象区域(TA)更小的照射区域(A1)内；驱动部(15)，在沿着晶圆(W)之表面(Wa)的平面内，使照射区域(A1)沿彼此交叉的二方向移动；及控制器(100)，以根据被设置成将光照射至处理对象区域(TA)之整个区域的移动图案，使照射位置沿二方向移动的方式，控制驱动部(15)。

    基板拍攝裝置
    3.
    发明专利
    基板拍攝裝置 审中-公开
    基板拍摄设备

    公开(公告)号：TW202004940A

    公开(公告)日：2020-01-16

    申请号：TW108139612

    申请日：2017-02-20

    申请人： 日商東京威力科創股份有限公司 ,  TOKYO ELECTRON LIMITED

    发明人： 古閑法久 ,  KOGA, NORIHISA ,  西山直 ,  NISHIYAMA, TADASHI ,  野田康朗 ,  NODA, YASUAKI

    IPC分类号： H01L21/66 ,  G01N21/956 ,  G01B11/30

    摘要： 本發明提供一種基板拍攝裝置，抑制機器問題，並追求基板拍攝裝置之小型化及低成本化。本發明之檢查單元U3，具備：保持台，構成為保持晶圓W而使其旋轉；鏡構件430，具有反射面432，該反射面對保持台之旋轉軸傾斜，且與保持在保持台的晶圓W之端面Wc及背面Wb的邊緣區域Wd相對向；以及相機，具有拍攝元件，來自保持在保持台的晶圓W之表面Wa的邊緣區域Wd之光線、及以鏡構件430的反射面432反射之來自保持在保持台的晶圓W之端面Wc的光線之反射光，皆通過透鏡而輸入該拍攝元件。

    简体摘要： 本发明提供一种基板拍摄设备，抑制机器问题，并追求基板拍摄设备之小型化及低成本化。本发明之检查单元U3，具备：保持台，构成为保持晶圆W而使其旋转；镜构件430，具有反射面432，该反射面对保持台之旋转轴倾斜，且与保持在保持台的晶圆W之端面Wc及背面Wb的边缘区域Wd相对向；以及相机，具有拍摄组件，来自保持在保持台的晶圆W之表面Wa的边缘区域Wd之光线、及以镜构件430的反射面432反射之来自保持在保持台的晶圆W之端面Wc的光线之反射光，皆通过透镜而输入该拍摄组件。

    基板處理裝置
    5.
    发明专利
    基板處理裝置 审中-公开
    基板处理设备

    公开(公告)号：TW202004903A

    公开(公告)日：2020-01-16

    申请号：TW108116485

    申请日：2019-05-14

    申请人： 日商東京威力科創股份有限公司 ,  TOKYO ELECTRON LIMITED

    发明人： 古閑法久 ,  KOGA, NORIHISA

    IPC分类号： H01L21/3065

    摘要： 本說明書中說明一種可抑制臭氧產生並有效率地處理基板之基板處理裝置。基板處理裝置，具備：處理室，進行基板處理；光源室，包含將真空紫外光照至基板的表面之光源；氣體供給部，將惰性氣體供給至光源室內；以及控制部，執行控制氣體供給部之處理，俾將光源室內維持為惰性氣體環境。

    简体摘要： 本说明书中说明一种可抑制臭氧产生并有效率地处理基板之基板处理设备。基板处理设备，具备：处理室，进行基板处理；光源室，包含将真空紫外光照至基板的表面之光源；气体供给部，将惰性气体供给至光源室内；以及控制部，运行控制气体供给部之处理，俾将光源室内维持为惰性气体环境。

    輔助曝光裝置及曝光量分布取得方法
    6.
    发明专利
    輔助曝光裝置及曝光量分布取得方法 审中-公开
    辅助曝光设备及曝光量分布取得方法

    公开(公告)号：TW201826038A

    公开(公告)日：2018-07-16

    申请号：TW106132194

    申请日：2017-09-20

    申请人： 日商東京威力科創股份有限公司 ,  TOKYO ELECTRON LIMITED

    发明人： 柏木秀明 ,  KASHIWAGI, HIDEAKI ,  丹羽崇文 ,  NIWA, TAKAFUMI ,  古閑法久 ,  KOGA, NORIHISA

    IPC分类号： G03F7/20 ,  G03F1/38

    摘要： [課題] 在對被塗佈在基板上之光阻膜，與轉印光罩之圖案的通常曝光處理不同，另外進行照射紫外光之輔助曝光之情況下，以更確實地提高光阻圖案之線寬之面內均勻性。 　　[解決手段] 輔助曝光裝置(123)係對被塗佈在晶圓(W上)之光阻膜轉印光罩之圖案之曝光處理不同，另外進行對晶圓上之光阻膜照射來自雷射光源(135)之特定波長的光的輔助曝光。輔助曝光裝置(123)具備朝向晶圓(W)反射來自雷射光源(135)之光的第1全反射鏡(141)，和反射被反射至該第1全反射鏡(141)之後被反射至晶圓(W)之光的第2全反射鏡(142)，和具有受光被反射至第2全反射鏡(142)之光之受光部的攝像裝置(143)。

    简体摘要： [课题] 在对被涂布在基板上之光阻膜，与转印光罩之图案的通常曝光处理不同，另外进行照射紫外光之辅助曝光之情况下，以更确实地提高光阻图案之线宽之面内均匀性。 　　[解决手段] 辅助曝光设备(123)系对被涂布在晶圆(W上)之光阻膜转印光罩之图案之曝光处理不同，另外进行对晶圆上之光阻膜照射来自激光光源(135)之特定波长的光的辅助曝光。辅助曝光设备(123)具备朝向晶圆(W)反射来自激光光源(135)之光的第1全反射镜(141)，和反射被反射至该第1全反射镜(141)之后被反射至晶圆(W)之光的第2全反射镜(142)，和具有受光被反射至第2全反射镜(142)之光之受光部的摄像设备(143)。

    基板拍攝裝置
    7.
    发明专利
    基板拍攝裝置 审中-公开
    基板拍摄设备

    公开(公告)号：TW201740481A

    公开(公告)日：2017-11-16

    申请号：TW106105501

    申请日：2017-02-20

    申请人： 東京威力科創股份有限公司 ,  TOKYO ELECTRON LIMITED

    发明人： 古閑法久 ,  KOGA, NORIHISA ,  西山直 ,  NISHIYAMA, TADASHI ,  野田康朗 ,  NODA, YASUAKI

    IPC分类号： H01L21/66 ,  G01N21/956 ,  G01B11/30

    CPC分类号： H04N7/183 ,  G01N21/8806 ,  G01N21/9501 ,  G01N2021/8812 ,  G06T7/0004 ,  G06T2207/30148 ,  H04N5/2256

    摘要： 本發明提供一種基板拍攝裝置，抑制機器問題，並追求基板拍攝裝置之小型化及低成本化。本發明之檢查單元U3，具備：保持台，構成為保持晶圓W而使其旋轉；鏡構件430，具有反射面432，該反射面對保持台之旋轉軸傾斜，且與保持在保持台的晶圓W之端面Wc及背面Wb的邊緣區域Wd相對向；以及相機，具有拍攝元件，來自保持在保持台的晶圓W之表面Wa的邊緣區域Wd之光線、及以鏡構件430的反射面432反射之來自保持在保持台的晶圓W之端面Wc的光線之反射光，皆通過透鏡而輸入該拍攝元件。

    简体摘要： 本发明提供一种基板拍摄设备，抑制机器问题，并追求基板拍摄设备之小型化及低成本化。本发明之检查单元U3，具备：保持台，构成为保持晶圆W而使其旋转；镜构件430，具有反射面432，该反射面对保持台之旋转轴倾斜，且与保持在保持台的晶圆W之端面Wc及背面Wb的边缘区域Wd相对向；以及相机，具有拍摄组件，来自保持在保持台的晶圆W之表面Wa的边缘区域Wd之光线、及以镜构件430的反射面432反射之来自保持在保持台的晶圆W之端面Wc的光线之反射光，皆通过透镜而输入该拍摄组件。

    基板檢查裝置、基板檢查方法及記憶媒體
    9.
    发明专利
    基板檢查裝置、基板檢查方法及記憶媒體 审中-公开
    基板检查设备、基板检查方法及记忆媒体

    公开(公告)号：TW201312100A

    公开(公告)日：2013-03-16

    申请号：TW101119000

    申请日：2012-05-28

    申请人： 東京威力科創股份有限公司 ,  TOKYO ELECTRON LIMITED

    发明人： 久野和哉 ,  HISANO, KAZUYA ,  富田浩 ,  TOMITA, HIROSHI ,  古閑法久 ,  KOGA, NORIHISA ,  西山直 ,  NISHIYAMA, TADASHI ,  早川誠 ,  HAYAKAWA, MAKOTO

    IPC分类号： G01N21/956

    CPC分类号： G01N21/956 ,  G01N21/8806 ,  G01N21/93 ,  G01N21/9501 ,  G01N2021/9513 ,  G06T7/0004

    摘要： 本發明的課題是在於提供一種不用檢查用基板，可防止照明部的照度降低所造成檢查的狀況不佳發生之技術。其解決手段係以能夠具備下列各部或構件的方式來構成基板檢查裝置，模式選擇部，其係用以在檢查模式與維護模式之間選擇模式，該檢查模式係以被載置於設在框體內的載置台的基板作為被照體來攝像而進行檢查，該維護模式係用以確認照明部的照度；導光構件，其係設於上述框體內，將上述照明部的光引導至攝像元件；判定部，其係於維護模式實行時判定經由上述導光構件而藉由攝像元件所取得的照明部的光的亮度是否為預先被設定的容許範圍內；及告知部，其係於藉由上述判定部來判定上述亮度為脫離上述容許範圍時，告知須要更換照明部。

    简体摘要： 本发明的课题是在于提供一种不用检查用基板，可防止照明部的照度降低所造成检查的状况不佳发生之技术。其解决手段系以能够具备下列各部或构件的方式来构成基板检查设备，模式选择部，其系用以在检查模式与维护模式之间选择模式，该检查模式系以被载置于设在框体内的载置台的基板作为被照体来摄像而进行检查，该维护模式系用以确认照明部的照度；导光构件，其系设于上述框体内，将上述照明部的光引导至摄像组件；判定部，其系于维护模式实行时判定经由上述导光构件而借由摄像组件所取得的照明部的光的亮度是否为预先被设置的容许范围内；及告知部，其系于借由上述判定部来判定上述亮度为脱离上述容许范围时，告知须要更换照明部。