发明专利
摘要:
本發明之目的是實現一種歐姆電極,對Ⅱ-Ⅵ族化合物半導體具有良好之密性而且接觸電阻係數很低。
本發明之構造是利用真空蒸法在p型ZnTe層2上形成歐姆電極,該歐姆電極由以Pd膜3作為最下層之金屬多層膜來構成。在歐姆電極形成後,依照需要以100~300℃之溫度進行退火。依照這種方式所形成之歐姆電極作為使用有Ⅱ-Ⅵ族化合物半導體之半導體雷射或發光二極體之p側之歐姆電極。
本發明之構造是利用真空蒸法在p型ZnTe層2上形成歐姆電極,該歐姆電極由以Pd膜3作為最下層之金屬多層膜來構成。在歐姆電極形成後,依照需要以100~300℃之溫度進行退火。依照這種方式所形成之歐姆電極作為使用有Ⅱ-Ⅵ族化合物半導體之半導體雷射或發光二極體之p側之歐姆電極。
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