发明专利
- 专利标题： 半導體裝置及其製造方法
- 专利标题（英）： Semiconductor apparatus, and method of manufacturing semiconductor apparatus
- 专利标题（中）： 半导体设备及其制造方法
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申请号： TW097123667申请日： 2008-06-25
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公开(公告)号： TWI433282B公开(公告)日： 2014-04-01
- 发明人: 渡部光久 , WATANABE, MITSUHISA , 安生一郎 , ANJOH, ICHIRO
- 申请人： 爾必達存儲器股份有限公司 , ELPIDA MEMORY, INC.
- 专利权人： 爾必達存儲器股份有限公司,ELPIDA MEMORY, INC.
- 当前专利权人： 爾必達存儲器股份有限公司,ELPIDA MEMORY, INC.
- 代理商 周良謀; 周良吉
- 优先权： 2007-186895 20070718
- 主分类号： H01L23/48
- IPC分类号： H01L23/48 ; H01L21/00
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