- 专利标题： ALD method and apparatus including a photon source
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申请号： US15536853申请日： 2015-11-25
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公开(公告)号： US10597778B2公开(公告)日： 2020-03-24
- 发明人: Timo Malinen
- 申请人： Picosun Oy
- 申请人地址： FI Espoo
- 专利权人： Picosun Oy
- 当前专利权人： Picosun Oy
- 当前专利权人地址： FI Espoo
- 代理机构： Ziegler IP Law Group, LLC
- 优先权： FI20140362 20141222
- 国际申请： PCT/FI2015/050820 WO 20151125
- 国际公布： WO2016/102749 WO 20160630
- 主分类号： C23C16/48
- IPC分类号： C23C16/48 ; C23C16/455 ; C23C16/54
摘要：
A deposition method, including providing a channel through a deposition apparatus, feeding precursor vapor into the channel, and depositing material from the precursor vapor onto a substrate on its way through the deposition apparatus by exposing the substrate to the precursor vapor and to alternating photon exposure and shade periods within the channel.
公开/授权文献
- US20170342563A1 ALD METHOD AND APPARATUS INCLUDING A PHOTON SOURCE 公开/授权日：2017-11-30
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