- 专利标题： Ion implantation amount adjustment device and method, ion implantation apparatus and determination method
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申请号： US16323418申请日： 2018-03-28
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公开(公告)号： US10734189B2公开(公告)日： 2020-08-04
- 发明人: Hao Jing , Dongwoo Kang , Yongyi Fu , Chenliang Liu , Rujian Li , Kang Luo
- 申请人： CHENGDU BOE OPTOELECTRONICS TECHNOLOGY CO., LTD. , BOE TECHNOLOGY GROUP CO., LTD.
- 申请人地址： CN Chengdu, Sichuan CN Beijing
- 专利权人： CHENGDU BOE OPTOELECTRONICS TECHNOLOGY CO., LTD.,BOE TECHNOLOGY GROUP CO., LTD.
- 当前专利权人： CHENGDU BOE OPTOELECTRONICS TECHNOLOGY CO., LTD.,BOE TECHNOLOGY GROUP CO., LTD.
- 当前专利权人地址： CN Chengdu, Sichuan CN Beijing
- 代理机构： Brooks Kushman P.C.
- 优先权： com.zzzhc.datahub.patent.etl.us.BibliographicData$PriorityClaim@2f82f08b
- 国际申请： PCT/CN2018/080897 WO 20180328
- 国际公布： WO2018/233337 WO 20181227
- 主分类号： H01J37/02
- IPC分类号： H01J37/02 ; H01J37/244 ; H01J37/317 ; H01J37/05
摘要：
The present disclosure relates to an ion implantation amount adjustment device that includes: an adjuster configured to turn on or off an ion outlet of the ion implantation apparatus; and an actuator configured to control movement of the adjuster to adjust an opening degree of the ion outlet.
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