- 专利标题： Electron microscopy analysis method
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申请号： US16946782申请日： 2020-07-06
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公开(公告)号： US11686693B2公开(公告)日： 2023-06-27
- 发明人: Nicolas Bernier , Loïc Henry
- 申请人： Commissariat à l'Energie Atomique et aux Energies Alternatives
- 申请人地址： FR Paris
- 专利权人： Commissariat à l'Energie Atomique et aux Energies Alternatives
- 当前专利权人： Commissariat à l'Energie Atomique et aux Energies Alternatives
- 当前专利权人地址： FR Paris
- 代理机构： Moreno IP Law LLC
- 优先权： FR 07615 2019.07.08
- 主分类号： G01N23/20058
- IPC分类号： G01N23/20058 ; G01N23/2252 ; G01N23/2055
摘要：
The present disclosure concerns an electron microscopy method, including the emission of a precessing electron beam and the acquisition, at least partly simultaneous, of an electron diffraction pattern and of intensity values of X rays.
公开/授权文献
- US20210010956A1 ELECTRON MICROSCOPY ANALYSIS METHOD 公开/授权日：2021-01-14
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