发明申请
- 专利标题： Sputtering targets and method for the preparation thereof
- 专利标题（中）： 溅射靶及其制备方法
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申请号： US10008949申请日： 2001-12-07
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公开(公告)号： US20020125129A1公开(公告)日： 2002-09-12
- 发明人: Johan Emile Vanderstraeten
- 申请人： BVBA VANDERSTRAETEN
- 申请人地址： null
- 专利权人： BVBA VANDERSTRAETEN
- 当前专利权人： BVBA VANDERSTRAETEN
- 当前专利权人地址： null
- 优先权： GB9600210.0 19960105
- 主分类号： C23C004/10
- IPC分类号： C23C004/10 ; C23C014/34
摘要：
Sputtering targets comprising sub-stoichiometric titanium dioxide, TiOx, where x is below 2, are provided. The targets are preferably formed by plasma spraying so as to have an electrical resistivity of less than 0.5 ohm.cm.
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