发明申请
- 专利标题： Use of a reticle absorber material in reducing aberrations
- 专利标题（中）： 使用掩模版吸收材料减少畸变
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申请号： US10816169申请日： 2004-04-02
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公开(公告)号： US20050221238A1公开(公告)日： 2005-10-06
- 发明人: Marcel Mathijs Dierichs
- 申请人： Marcel Mathijs Dierichs
- 申请人地址： NL Veldhoven
- 专利权人： ASML NETHERLANDS B.V.
- 当前专利权人： ASML NETHERLANDS B.V.
- 当前专利权人地址： NL Veldhoven
- 主分类号： G03F7/20
- IPC分类号： G03F7/20
摘要：
A lithographic apparatus comprising a patterning reticle which has an aluminium absorber layer which improves imaging by eliminating or at least minimising the formation of aberrations in a patterned beam.
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