发明申请
US20050239953A1 Radiation curable composition, storing method thereof, forming method of cured film, patterning method, use of pattern, electronic components and optical waveguide
审中-公开
辐射固化组合物，其保存方法，固化膜的形成方法，图案化方法，图案的使用，电子部件和光波导
- 专利标题： Radiation curable composition, storing method thereof, forming method of cured film, patterning method, use of pattern, electronic components and optical waveguide
- 专利标题（中）： 辐射固化组合物，其保存方法，固化膜的形成方法，图案化方法，图案的使用，电子部件和光波导
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申请号： US11167032申请日： 2005-06-27
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公开(公告)号： US20050239953A1公开(公告)日： 2005-10-27
- 发明人: Haruaki Sakurai , Koichi Abe
- 申请人： Haruaki Sakurai , Koichi Abe
- 申请人地址： JP Tokyo
- 专利权人： HITACHI CHEMICAL CO., LTD.
- 当前专利权人： HITACHI CHEMICAL CO., LTD.
- 当前专利权人地址： JP Tokyo
- 优先权： JPP2003-348160 20031007; JPP2004-245105 20040825
- 主分类号： C08G77/04
- IPC分类号： C08G77/04 ; C08L83/00 ; G02B6/12 ; G03F7/004 ; G03F7/038 ; G03F7/075 ; H01L21/027
摘要：
The present invention provides a radiation curing composition comprising (a): a siloxane resin, (b): a photoacid generator or photobase generator, and (c): a solvent capable of dissolving component (a) and containing an aprotic solvent.
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