发明申请
- 专利标题： Methods of cleaning optical substrates
- 专利标题（中）： 清洗光学基片的方法
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申请号： US10938441申请日： 2004-09-09
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公开(公告)号： US20060048798A1公开(公告)日： 2006-03-09
- 发明人: Michael McCoy , Jerry Blumhoefer , Bruce Seiber
- 申请人： Michael McCoy , Jerry Blumhoefer , Bruce Seiber
- 专利权人： Honeywell International Inc.
- 当前专利权人： Honeywell International Inc.
- 主分类号： C23G5/00
- IPC分类号： C23G5/00
摘要：
Described are methods for processing optical materials, by use of cleaning materials that include acid and oxidizer.
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