中科微点-全球专利检索

  1. Login
  2. Sign Up
Invention Application
US20060079031A1 Semiconductor device and manufacturing method thereof 有权
半导体装置及其制造方法

  • Patent Title: Semiconductor device and manufacturing method thereof
  • Patent Title (中): 半导体装置及其制造方法
  • Application No.: US11155610
    Application Date: 2005-06-20
  • Publication No.: US20060079031A1
    Publication Date: 2006-04-13
  • Inventor: Hidetsugu Uchida
  • Applicant: Hidetsugu Uchida
  • Priority: JP297072/2004 20041012
  • Main IPC: H01L21/84
  • IPC: H01L21/84
Semiconductor device and manufacturing method thereof
Abstract:
An insulating film layer is formed between a channel region of an MOS element formed in a monocrystal silicon layer of an SOS substrate in which the monocrystal silicon layer is laminated on a sapphire substrate, and the sapphire substrate, thereby to bring a stress state of the monocrystal silicon layer on the insulating film layer into a tensile stress state.
Abstract(Chinese):

在形成在单晶硅层的蓝宝石衬底上的SOS衬底的单晶硅层中形成的MOS元件的沟道区域和蓝宝石衬底之间形成绝缘膜层，从而使得 绝缘膜层上的单晶硅层变成拉伸应力状态。

Public/Granted literature
Information query
Global Dossier Espacenet
IPC分类:
H 电学
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件（使用半导体器件的测量入G01；一般电阻器入H01C；磁体、电感器、变压器入H01F；一般电容器入H01G；电解型器件入H01G9/00；电池组、蓄电池入H01M；波导管、谐振器或波导型线路入H01P；线路连接器、汇流器入H01R；受激发射器件入H01S；机电谐振器入H03H；扬声器、送话器、留声机拾音器或类似的声机电传感器入H04R；一般电光源入H05B；印刷电路、混合电路、电设备的外壳或结构零部件、电气元件的组件的制造入H05K；在具有特殊应用的电路中使用的半导体器件见应用相关的小类）
H01L21/00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造（由预制电组件组成的组装件的制造入H05K3/00，H05K13/00）
H01L21/77 ..在公共衬底中或上面形成的由许多固态元件或集成电路组成的器件的制造或处理（电可编程只读存储器或其多步骤的制造方法入H01L27/115）
H01L21/78 ...把衬底连续地分成多个独立的器件（改变表面物理特性或者半导体形状的切割入H01L21/304）
H01L21/82 ....制造器件，例如每一个由许多元件组成的集成电路
H01L21/84 .....衬底不是半导体的，例如绝缘体
Patent Agency Ranking
0/0