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发明申请
US20070077718A1 Process for manufacturing silicon-on-insulator substrate 有权
用于制造绝缘体上硅衬底的工艺

  • 专利标题： Process for manufacturing silicon-on-insulator substrate
  • 专利标题（中）： 用于制造绝缘体上硅衬底的工艺
  • 申请号： US11541385
    申请日： 2006-09-29
  • 公开(公告)号： US20070077718A1
    公开(公告)日： 2007-04-05
  • 发明人: Tetsuya Nakai
  • 申请人： Tetsuya Nakai
  • 优先权： JP2005-290705 20051004
  • 主分类号： H01L21/8222
  • IPC分类号： H01L21/8222
Process for manufacturing silicon-on-insulator substrate
摘要：
A process for manufacturing a silicon-on-insulator substrate comprising a single-crystal silicon substrate in which an oxide layer has been locally buried includes forming a step on the silicon substrate so that a region corresponding to the oxide layer has a greater surface height than other regions; then implanting oxygen ions in the silicon substrate so as to form the oxide layer.
摘要（中）：

一种用于制造绝缘体上硅衬底的方法，包括其中已经局部掩埋了氧化物层的单晶硅衬底包括在硅衬底上形成台阶，使得与氧化物层相对应的区域具有比 其他地区; 然后将氧离子注入到硅衬底中以形成氧化物层。

公开/授权文献
信息查询
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IPC分类:
H 电学
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件（使用半导体器件的测量入G01；一般电阻器入H01C；磁体、电感器、变压器入H01F；一般电容器入H01G；电解型器件入H01G9/00；电池组、蓄电池入H01M；波导管、谐振器或波导型线路入H01P；线路连接器、汇流器入H01R；受激发射器件入H01S；机电谐振器入H03H；扬声器、送话器、留声机拾音器或类似的声机电传感器入H04R；一般电光源入H05B；印刷电路、混合电路、电设备的外壳或结构零部件、电气元件的组件的制造入H05K；在具有特殊应用的电路中使用的半导体器件见应用相关的小类）
H01L21/00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造（由预制电组件组成的组装件的制造入H05K3/00，H05K13/00）
H01L21/77 ..在公共衬底中或上面形成的由许多固态元件或集成电路组成的器件的制造或处理（电可编程只读存储器或其多步骤的制造方法入H01L27/115）
H01L21/78 ...把衬底连续地分成多个独立的器件（改变表面物理特性或者半导体形状的切割入H01L21/304）
H01L21/82 ....制造器件，例如每一个由许多元件组成的集成电路
H01L21/822 .....衬底是采用硅工艺的半导体的（H01L21/8258优先）
H01L21/8222 ......双极工艺
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