发明申请
- 专利标题： Wet Treatment of Hafnium Containing Materials
- 专利标题（中）： 含铪材料的湿处理
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申请号： US11565227申请日： 2006-11-30
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公开(公告)号： US20070141850A1公开(公告)日： 2007-06-21
- 发明人: Audrey Dupont , Kristin Schupke , Stefan Jakschik , Alejandro Avellan
- 申请人： Audrey Dupont , Kristin Schupke , Stefan Jakschik , Alejandro Avellan
- 主分类号： C03C15/00
- IPC分类号： C03C15/00 ; H01L21/302 ; B44C1/22
摘要：
A semiconductor product includes an exposed Hafnium-containing layer. The Hafnium-containing layer is treated with a solution that includes a low ionic strength organic substance.
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