发明申请
US20090066921A1 METHOD FOR PRODUCING A MARKER ON A SUBSTRATE, LITHOGRAPHIC APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
失效
在基板上生产标记的方法，平版印刷设备和器件制造方法
- 专利标题： METHOD FOR PRODUCING A MARKER ON A SUBSTRATE, LITHOGRAPHIC APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
- 专利标题（中）： 在基板上生产标记的方法，平版印刷设备和器件制造方法
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申请号： US12269390申请日： 2008-11-12
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公开(公告)号： US20090066921A1公开(公告)日： 2009-03-12
- 发明人: Maurits Van Der Schaar , Jacobus Burghoorn , Richard Johannes Franciscus Van Haren , Everhardus Cornelis Mos , Rene Monshouwer
- 申请人： Maurits Van Der Schaar , Jacobus Burghoorn , Richard Johannes Franciscus Van Haren , Everhardus Cornelis Mos , Rene Monshouwer
- 申请人地址： NL Veldhoven
- 专利权人： ASML NETHERLANDS B.V.
- 当前专利权人： ASML NETHERLANDS B.V.
- 当前专利权人地址： NL Veldhoven
- 主分类号： G03B27/52
- IPC分类号： G03B27/52
摘要：
A method of producing a marker on a substrate includes projecting a patterned beam on a layer of resist disposed on a substrate in a lithographic apparatus to create a latent marker; and locally heating the substrate at the marker location in the lithographic apparatus to transform the latent marker into a detectable marker.
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