发明申请
US20090142584A1 PROCESS FOR THE DEPOSITION OF METAL NANOPARTICLES BY PHYSICAL VAPOR DEPOSITION
审中-公开
通过物理蒸气沉积沉积金属纳米颗粒的方法
- 专利标题： PROCESS FOR THE DEPOSITION OF METAL NANOPARTICLES BY PHYSICAL VAPOR DEPOSITION
- 专利标题（中）： 通过物理蒸气沉积沉积金属纳米颗粒的方法
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申请号： US12276653申请日： 2008-11-24
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公开(公告)号： US20090142584A1公开(公告)日： 2009-06-04
- 发明人: Laurent Bedel , Fabrice Emieux , Sophie Mailley , Anthony Taupeau
- 申请人： Laurent Bedel , Fabrice Emieux , Sophie Mailley , Anthony Taupeau
- 专利权人： Commissariat A L'Energie Atomique
- 当前专利权人： Commissariat A L'Energie Atomique
- 优先权： FR07/08374 20071130
- 主分类号： B32B5/16
- IPC分类号： B32B5/16 ; C23C14/34 ; C23C14/35
摘要：
The present invention relates to a process for the deposition of metal nanoparticles by physical vapor deposition at the surface of a substrate which may be heat-sensitive, at a pressure of the order of a few tens of pascals, and to the substrates obtained by implementing this process and to their applications.
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