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发明申请
US20090153813A1 Exposure Method, Exposure Apparatus and Method for Fabricating Device 审中-公开
曝光方法，曝光装置及其制造方法

  • 专利标题： Exposure Method, Exposure Apparatus and Method for Fabricating Device
  • 专利标题（中）： 曝光方法，曝光装置及其制造方法
  • 申请号： US11883319
    申请日： 2007-01-27
  • 公开(公告)号： US20090153813A1
    公开(公告)日： 2009-06-18
  • 发明人: Kenichi Shiraishi
  • 申请人： Kenichi Shiraishi
  • 优先权： JP2005023244 20050131
  • 国际申请： PCT/JP2006/001296 WO 20070127
  • 主分类号： G03B27/52
  • IPC分类号： G03B27/52
Exposure Method, Exposure Apparatus and Method for Fabricating Device
摘要：
An exposure condition is determined in accordance with a moving condition of a substrate (P) relative to a projection optical system so that a pattern image is projected on the substrate (P) in a desired projection state, and the substrate (P) is exposed in the determined exposure condition.
摘要（中）：

根据基板（P）相对于投影光学系统的移动状态确定曝光条件，使得图案图像以期望的投影状态投影在基板（P）上，并且基板（P）暴露 在确定的暴露条件下。

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