发明申请
- 专利标题： Template Having a Silicon Nitride, Silicon Carbide or Silicon Oxynitride Film
- 专利标题（中）： 具有氮化硅，碳化硅或氮氧化硅膜的模板
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申请号： US12605848申请日： 2009-10-26
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公开(公告)号： US20100040718A1公开(公告)日： 2010-02-18
- 发明人: Douglas J. Resnick , Mario J. Meissl , Kosta S. Selinidis , Frank Y. Xu
- 申请人： Douglas J. Resnick , Mario J. Meissl , Kosta S. Selinidis , Frank Y. Xu
- 申请人地址： US TX Austin
- 专利权人： MOLECULAR IMPRINTS, INC.
- 当前专利权人： MOLECULAR IMPRINTS, INC.
- 当前专利权人地址： US TX Austin
- 主分类号： G03F1/06
- IPC分类号： G03F1/06
摘要：
An imprint lithography template including, inter alia, a body having a first thickness associated therewith; a patterning layer, having a second thickness associated therewith, comprising a plurality of features, having a third thickness associated therewith.
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