发明申请
- 专利标题： PROJECTION OBJECTIVE FOR MICROLITHOGRAPHY
- 专利标题（中）： 投影目标的微观算法
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申请号： US12624993申请日： 2009-11-24
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公开(公告)号： US20100079739A1公开(公告)日： 2010-04-01
- 发明人: Aksel Goehnermeier , Daniel Kraehmer , Vladimir Kamenov , Michael Totzeck
- 申请人： Aksel Goehnermeier , Daniel Kraehmer , Vladimir Kamenov , Michael Totzeck
- 申请人地址： DE Oberkochen
- 专利权人： CARL ZEISS SMT AG
- 当前专利权人： CARL ZEISS SMT AG
- 当前专利权人地址： DE Oberkochen
- 优先权： DE102007024685.6 20070525
- 主分类号： G03B27/54
- IPC分类号： G03B27/54
摘要：
A projection objective for applications in microlithography, a microlithography projection exposure apparatus with a projection objective, a microlithographic manufacturing method for microstructured components, and a component manufactured using such a manufacturing method are disclosed.
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