发明申请
US20100085553A1 Lithographic Apparatus and Device Manufacturing Method Utilizing a Substrate Handler
有权
利用基板处理器的平版印刷设备和器件制造方法
- 专利标题： Lithographic Apparatus and Device Manufacturing Method Utilizing a Substrate Handler
- 专利标题（中）： 利用基板处理器的平版印刷设备和器件制造方法
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申请号： US12639457申请日： 2009-12-16
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公开(公告)号： US20100085553A1公开(公告)日： 2010-04-08
- 发明人: Hernes Jacobs , Bernardus Antonius Johannes Luttikhuis , Harmen Klaas Van Der Schoot , Petrus Matthijs Henricus Vosters
- 申请人： Hernes Jacobs , Bernardus Antonius Johannes Luttikhuis , Harmen Klaas Van Der Schoot , Petrus Matthijs Henricus Vosters
- 申请人地址： NL Veldhoven
- 专利权人： ASML Netherlands B.V.
- 当前专利权人： ASML Netherlands B.V.
- 当前专利权人地址： NL Veldhoven
- 主分类号： G03B27/58
- IPC分类号： G03B27/58 ; G03B27/32
摘要：
A substrate handler is provided. The substrate handler includes a support surface configured to carry a substrate and a pre-conditioning unit configured to pre-condition the substrate. The substrate handler is configured to move the substrate relative to a substrate table.
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