发明申请
- 专利标题： POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME
- 专利标题（中）： 正极性组合物和使用其的图案形成方法
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申请号： US12668674申请日： 2008-07-10
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公开(公告)号： US20100203451A1公开(公告)日： 2010-08-12
- 发明人: Takayuki Kato , Akinori Shibuya , Yusuke Iizuka
- 申请人： Takayuki Kato , Akinori Shibuya , Yusuke Iizuka
- 申请人地址： JP Tokyo
- 专利权人： FUJIFILM CORPORATION
- 当前专利权人： FUJIFILM CORPORATION
- 当前专利权人地址： JP Tokyo
- 优先权： JP2007-184394 20070713
- 国际申请： PCT/JP2008/062524 WO 20080710
- 主分类号： G03F7/004
- IPC分类号： G03F7/004 ; G03F7/20
摘要：
Provided is a positive resist composition using a resin having, in the polymer main chain, a specific acid decomposable structure and further having, in the side chain thereof, several specific acid decomposable groups, satisfactory in an exposure latitude, a focus latitude, and pattern collapse prevention at a high level, and having reduced development defects; and a pattern forming method.
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