发明申请
- 专利标题： PHOTOLATENT AMIDINE BASES FOR REDOX CURING OF RADICALLY CURABLE FORMULATIONS
- 专利标题（中）： 用于氧化固化的光固化胺基
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申请号： US12812795申请日： 2009-01-06
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公开(公告)号： US20110190412A1公开(公告)日： 2011-08-04
- 发明人: Katia Studer , Kurt Dietliker , Tunja Jung
- 申请人： Katia Studer , Kurt Dietliker , Tunja Jung
- 申请人地址： US NY Tarrytown
- 专利权人： BASF SE
- 当前专利权人： BASF SE
- 当前专利权人地址： US NY Tarrytown
- 优先权： EP08150721.2 20080128
- 国际申请： PCT/EP2009/050066 WO 20090106
- 主分类号： C08J3/28
- IPC分类号： C08J3/28 ; C08F222/22 ; C08F122/10 ; C08F122/22
摘要：
The invention pertains to photolatent amidine bases for redox curing of radically curable formulations, that is a composition comprising (a1) a photolatent amidine base; or (a2) a photolatent amine base; or (a3) a mixture of (a1) and (a2); and (b) a radically polymerizable compound; and (c) a free radical initiator capable to be reduced by amines and/or amidines, in particular a peroxide.
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