发明申请
US20110284801A1 PROCESS OF FORMING INSULATING LAYER BY PARTICLES HAVING LOW ENERGY
审中-公开
通过低能量颗粒形成绝缘层的工艺
- 专利标题： PROCESS OF FORMING INSULATING LAYER BY PARTICLES HAVING LOW ENERGY
- 专利标题（中）： 通过低能量颗粒形成绝缘层的工艺
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申请号： US13140449申请日： 2009-11-18
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公开(公告)号： US20110284801A1公开(公告)日： 2011-11-24
- 发明人: Michael Coelle , Owain Llyr Parri , David Sparrowe , Oleg Yaroshchuk , Eugene Telesh
- 申请人： Michael Coelle , Owain Llyr Parri , David Sparrowe , Oleg Yaroshchuk , Eugene Telesh
- 申请人地址： DE Darmstadt
- 专利权人： Merck Patent Gesellschaft Mit Beschrankter Haftung
- 当前专利权人： Merck Patent Gesellschaft Mit Beschrankter Haftung
- 当前专利权人地址： DE Darmstadt
- 优先权： EP08021957.9 20081218
- 国际申请： PCT/EP09/08197 WO 20091118
- 主分类号： H01B1/00
- IPC分类号： H01B1/00 ; B05D5/12 ; H01L21/31 ; C01B33/12
摘要：
The invention relates to a process of preparing functional layers, like protection, encapsulation and alignment layers, on an electronic device by a low energy particle beam deposition process, to functional layers obtainable by said process, and to electronic devices comprising such functional layers.
公开/授权文献
- US2621538A Clutch actuating device 公开/授权日：1952-12-16
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