发明申请
- 专利标题： ETCHING SOLUTION COMPOSITIONS FOR METAL LAMINATE FILMS
- 专利标题（中）： 用于金属层压膜的蚀刻溶液组合物
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申请号： US13201955申请日： 2010-02-23
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公开(公告)号： US20110297873A1公开(公告)日： 2011-12-08
- 发明人: Kenji Kuroiwa , Kazuaki Nagashima , Masaru Kato , Nohara Masahiro
- 申请人： Kenji Kuroiwa , Kazuaki Nagashima , Masaru Kato , Nohara Masahiro
- 申请人地址： JP Chou-ku, Tokyo JP Osaka-shi, Osaka
- 专利权人： Kanto Kagaku Kabushiki Kaisha,Sharp Kabushiki Kaisha
- 当前专利权人： Kanto Kagaku Kabushiki Kaisha,Sharp Kabushiki Kaisha
- 当前专利权人地址： JP Chou-ku, Tokyo JP Osaka-shi, Osaka
- 优先权： JP2009-039116 20090223
- 国际申请： PCT/JP2010/052662 WO 20100223
- 主分类号： C09K13/08
- IPC分类号： C09K13/08 ; C23F1/26 ; C23F1/20 ; C09K13/00 ; C23F1/00
摘要：
Disclosed are etching solution compositions that comprise fluorine compounds and iron ions, which are used for bulk etching of metal laminate films wherein a layer comprising aluminum or an aluminum alloy is laminated on top and a layer comprising titanium or a titanium alloy on bottom, and an etching method using said etching solution compositions.
公开/授权文献
- US09039915B2 Etching solution compositions for metal laminate films 公开/授权日：2015-05-26
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