发明申请
- 专利标题： SPUTTERING TARGETS AND METHODS OF FORMING THE SAME
- 专利标题（中）： 溅射目标及其形成方法
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申请号： US13173412申请日： 2011-06-30
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公开(公告)号： US20110303535A1公开(公告)日： 2011-12-15
- 发明人: Steven A. Miller , Prabhat Kumar , Mark Confroy , Richard McCorry , Gary Rozak , Peter Jepson
- 申请人： Steven A. Miller , Prabhat Kumar , Mark Confroy , Richard McCorry , Gary Rozak , Peter Jepson
- 主分类号： C23C14/34
- IPC分类号： C23C14/34 ; B05D5/00 ; B05D1/02 ; B32B38/08 ; C23C14/14 ; B05D1/36
摘要：
In various embodiments, sputtering targets incorporate an intermediate plate having a coefficient of thermal expansion (CTE) between a CTE of the backing plate and a CTE of the target material.
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