发明申请
- 专利标题： CONTROLLED FLOW OF A THIN LIQUID FILM BY ELECTROWETTING
- 专利标题（中）： 通过电镀法控制薄液膜的流动
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申请号： US13086357申请日： 2011-04-13
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公开(公告)号： US20110303541A1公开(公告)日： 2011-12-15
- 发明人: Suresh V. Garimella , Hemanth Kumar Dhavaleswarapu , Niru Kumari
- 申请人： Suresh V. Garimella , Hemanth Kumar Dhavaleswarapu , Niru Kumari
- 申请人地址： US IN West Lafayette
- 专利权人： PURDUE RESEARCH FOUNDATION
- 当前专利权人： PURDUE RESEARCH FOUNDATION
- 当前专利权人地址： US IN West Lafayette
- 主分类号： F28D5/00
- IPC分类号： F28D5/00 ; C25D13/00 ; B01D57/02
摘要：
Apparatus and methods for controllably wetting a microstructured surface.
公开/授权文献
- US08632670B2 Controlled flow of a thin liquid film by electrowetting 公开/授权日：2014-01-21
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