发明申请
- 专利标题： RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN
- 专利标题（中）： 耐蚀组合物及其制造方法
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申请号： US13404064申请日： 2012-02-24
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公开(公告)号： US20120219907A1公开(公告)日： 2012-08-30
- 发明人: Koji ICHIKAWA , Takahiro YASUE , Akira KAMABUCHI
- 申请人： Koji ICHIKAWA , Takahiro YASUE , Akira KAMABUCHI
- 申请人地址： JP Tokyo
- 专利权人： SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
- 当前专利权人： SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
- 当前专利权人地址： JP Tokyo
- 优先权： JP2011-039448 20110225
- 主分类号： G03F7/20
- IPC分类号： G03F7/20 ; G03F7/027
摘要：
A resist composition contains (A) a resin having a structural unit represented by the formula (I), (B) an acid generator and (D) a compound represented by the formula (II), wherein R1, ring X1, R3, R4, m, and n are defined in the specification.
公开/授权文献
- US08859182B2 Resist composition and method for producing resist pattern 公开/授权日：2014-10-14
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IPC分类:
