发明申请
- 专利标题： POLISHING PAD WITH ALIGNMENT FEATURE
- 专利标题（中）： 抛光垫与对准功能
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申请号： US13101826申请日： 2011-05-05
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公开(公告)号： US20120282849A1公开(公告)日： 2012-11-08
- 发明人: Robert Kerprich , William C. Allison , Diane Scott
- 申请人： Robert Kerprich , William C. Allison , Diane Scott
- 主分类号： B24D11/00
- IPC分类号： B24D11/00 ; B29C44/22 ; B29C44/04
摘要：
Polishing pads with alignment marks are described. Methods of fabricating polishing pads with alignment marks are also described.
公开/授权文献
- US08968058B2 Polishing pad with alignment feature 公开/授权日：2015-03-03
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