发明申请
US20130004741A1 ACTINIC-RAY- OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, ACTINIC-RAY- OR RADIATION-SENSITIVE FILM THEREFROM AND METHOD OF FORMING PATTERN USING THE COMPOSITION
有权
抗紫外线或辐射敏感性树脂组合物，其抗紫外线或辐射敏感性膜及其使用组合物形成图案的方法
- 专利标题： ACTINIC-RAY- OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, ACTINIC-RAY- OR RADIATION-SENSITIVE FILM THEREFROM AND METHOD OF FORMING PATTERN USING THE COMPOSITION
- 专利标题（中）： 抗紫外线或辐射敏感性树脂组合物，其抗紫外线或辐射敏感性膜及其使用组合物形成图案的方法
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申请号： US13538246申请日： 2012-06-29
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公开(公告)号： US20130004741A1公开(公告)日： 2013-01-03
- 发明人: Tomoki MATSUDA , Yoko TOKUGAWA , Akinori SHIBUYA
- 申请人： Tomoki MATSUDA , Yoko TOKUGAWA , Akinori SHIBUYA
- 申请人地址： JP Tokyo
- 专利权人： FUJIFILM CORPORATION
- 当前专利权人： FUJIFILM CORPORATION
- 当前专利权人地址： JP Tokyo
- 优先权： JP2011-146476 20110630
- 主分类号： G03F7/027
- IPC分类号： G03F7/027 ; B32B33/00 ; G03F7/20
摘要：
An actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition according to the present invention includes (A) a resin to be decomposed to increase its solubility in an alkali developer when acted on by an acid, and (B) a compound represented by the general formula (1-1) below.
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