发明申请
- 专利标题： METHOD OF FORMING PATTERN
- 专利标题（中）： 形成图案的方法
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申请号： US13807498申请日： 2011-09-16
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公开(公告)号： US20130101812A1公开(公告)日： 2013-04-25
- 发明人: Sou Kamimura , Tsukasa Yamanaka , Yuichiro Enomoto , Keita Kato
- 申请人： Sou Kamimura , Tsukasa Yamanaka , Yuichiro Enomoto , Keita Kato
- 申请人地址： JP Tokyo
- 专利权人： FUJIFILM CORPORATION
- 当前专利权人： FUJIFILM CORPORATION
- 当前专利权人地址： JP Tokyo
- 优先权： JP2010-210018 20100917; JP2011-196046 20110908
- 国际申请： PCT/JP2011/071771 WO 20110916
- 主分类号： G03F7/32
- IPC分类号： G03F7/32 ; G03F7/20
摘要：
Provided is a method of forming a pattern, including (a) forming a chemically amplified resist composition into a film, (b) exposing the film to light, and (c) developing the exposed film with a developer containing an organic solvent, wherein the developer contains an ester and a ketone having 7 or more carbon atoms.
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